《2024年稀土掺杂TiN薄膜的制备及性能调控》范文.docx

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《稀土掺杂TiN薄膜的制备及性能调控》篇一

一、引言

随着现代科技的飞速发展，稀土掺杂的TiN薄膜因其独特的物理和化学性质，在光电子器件、电磁材料、生物医疗等领域展现出广泛的应用前景。本文旨在探讨稀土掺杂TiN薄膜的制备方法及性能调控，以期为相关领域的研究和应用提供参考。

二、稀土掺杂TiN薄膜的制备

1.材料选择与准备

制备稀土掺杂TiN薄膜所需的主要材料包括钛靶材、氮气、稀土元素等。在实验前，需对材料进行严格的筛选和准备，确保材料的纯度和质量。

2.制备方法

目前，制备稀土掺杂TiN薄膜的主要方法包括磁控溅射法、溶胶-凝胶法、化学气相沉积法等。本文采用磁控溅射法，通过在氮气气氛下，以钛

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