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中子成像光栅的制作工艺研究.pdf

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    摘要

    摘要

    中子成像技术因其强大的无损检测能力，可以实现对物体内部进行检测，被

    广泛地应用于工业、国防等众多领域。基于光栅的中子相衬成像技术利用中子的

    波动性和散射效应，可以对弱吸收物质实现较高的图像衬度，获得更多的样品信

    息，有非常广泛的应用前景。相位光栅和吸收光栅是相衬成像系统中的核心元件，

    光栅的制作质量会严重影响成像的效果。本文开展了中子相位光栅和吸收光栅的

    相关工艺研究。首先，基于单晶硅的各向异性湿法腐蚀工艺制备了相位光栅，同

    时

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