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维普资讯
2006年仪表技术与传感器2Oo6
第2期InstrumentTechniqueandSensorNo.2
SnO,导电薄膜的制备与研究
王磊,杜军,毛昌辉,杨志明,熊玉华
(北京有色金属研究总院能源与材料技术中心,北京100088)
摘要:采用R.F反应溅射法制备Sn02导电薄膜,用XRD、AFM、XPS研究了薄膜的结构和组成对导电性能的影响。
XRD和AFM研究表明,随着衬底温度的增加,Sn02薄膜从非晶向多晶结构转变,表面粗糙度减弱,薄膜的表面电阻大幅增
加。采用XPS对薄膜表面成分进行分析,时不同衬底温度下Sn3ds/2拟合发现,薄膜表面存在sn2和sn4两种混合价态。
随着村底温度的增加,Sn3,,1能谱位置与峰宽并没有变化。对Ols能谱进行Gaussian拟合后发现,薄膜表面的氧以晶格氧
略()和化学吸附氧(oE)两种方式存在。实验证明,O含量与SnO2表面电阻成正比关系。
关键词:导电性能;Sn02薄膜;溅射;村底温度
中图分类号:TIll文献标识码:A文章编号:1002—1841(2006)02一OOO6一o3
PreparationandPropertiesof8n02ConductionFilmbyR.F.Sputiering
WANGLei,DUJun,MAOChang-hui,YANGZhi—ming,XIONGYu—hua
(ResearchCenterofEnergyMaterialsandEngineer,GeneralResearchInstituteforNonferrousMetals,Betj ̄g100088,China)
Abstract:TinoxidethinfilnrshavebeendepositedonSi(100)substratesbyR.F.reactivesputteringtechnique.SurfaceAppear-
aliceandcompositionswel'estudiedbyAFM,XPSandXRD.Theresultsrevealedthatt}leSn02fimlwas,themult—icrystaconsltructiven-
typesemiconductorwhosecarrierwasoxygenhole.Snhaddoubleelectrovalence(Sn:andSn4)inthetinoxidefim.Aclcordingly,
OxygenlspeakofSnO2fimlWasanalyzedbyGaussinafunction.Theresultsshowedthatsurfaceoxygenwarecomposedoflatticeoxygen
(0)andabsorboxygen(O ̄B).Wihttheincreasingofsubstratetempearture,ProportionofO ̄andsurfaceresistanceofsfimlin-
ere ̄,d.
Keywords:conductiveporperties;tinoxi(1ethinfiml;R.F.sputtering;substratetemperatttre
0引言
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