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RIE反应离子刻蚀系统
1.仪器功能：
RIE，全称是ReactiveIonEtching，反应离子刻蚀，是干法刻蚀的一种。原理是，
当在平板电极之间施加10～100MHz的高频电压(RF，radiofrequency)时，会产生数百
微米厚的离子层(ionsheath)，在其中放入试样，离子高速撞击试样而完成化学反应刻
蚀，此即为RIE(ReactiveIonEtching)。RIE反应离子刻蚀系统的外观如下图所示。
2.样品材料要求
样品载物台最大可放置8寸硅片；小样品
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