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注入机的组成和工作原理

作者：储建伟

摘要（Abstract）

本文的目的主要是对过去所学的总结、整理,相信对新的设备工程师也有一定的帮助。

由于我对注入设备了解不够，本文还缺乏一定的实践，必然还存在不少缺点和错误，殷切

期望各位同事和领导能给予批评和指正。

引言（Introduction）

离子注入机是一个体积庞大且构造复杂的半导体工艺设备，依照注入机所能提供的杂质

离子的浓度来区分，现在批量生产的注入机，主要分为高电流及中电流两种型式，分别代

表电流约在10mA及1mA左右的离子束。本文主要涉及设备方面。

主要内容

整个离子注入机最主要的部分有：

（1）用以产生离子的离子源；

（2）用以分离主要杂质离子的质量分析器；

（3）用以加速注入离子的加速器；

（4）聚集离子束的聚集器；

（5）帮助离子束对整片晶片进行注入的扫瞄器；

（6）线性加速器；

（7）能量分析器等其他一些附属的气体供应设备、真空系统和晶片的装卸系统等。

图1显示一个离子注入机内各个主要系统的相对位置。接下来，将针对其中比较重要的

部分，参照图解，来说明他们的功能与在注入机内的用途。

图1离子注入机的主要结构（Varian）

下面介绍这几个主要的部分：

一、离子源

离子源是用来产生离子的装置，它的基本原理是利用等离子体，在适当的低压

下，把气体分子借电子的碰撞而离子化的。简单的说，就是利用等离子体产生注入

机所需要的杂质离子。

基本上，离子源的结构是有蒸发器、弧光反应室、及磁铁等组合而成的。当使

用的杂质是固态的物体时，可以使用蒸发器来增加固态杂质的饱和蒸汽压，以便使

离子源易于产生所需要的离子。

起弧室内有灯丝,阴极,反射板.灯丝被加热后就会发射电子,由于起弧室内存有

一定浓度的气体粒子灯丝发射的电子就会撞击这些粒子,使粒子外层的电子脱离原

来的运行轨道成为自由电子而粒子则变成带正电的离子.这就是电离的简单过程.

离子源的弧光反应室的设计，主要有图2所示的Freeman式及Bernas式两种。

基本上，这两种弧光反应室的设计概念是完全相同的。

图2显示两种主要的离子源的弧光反应室设计(a)Freeman(b)

Bernas

离子的产生与否，取决于等离子体内的电子和气体分子（包括杂质气体）的碰

撞，因此，在离子注入机的弧光反应室内，都加入一个可以产生热离化电子的热灯

丝，用增加反应室的电子浓度的方法，来增加电子与气体分子间的碰撞频率，以增

加离子的浓度，这种灯丝通常是选用钨，钽、及钼等耐高温金属，利用直流电的加

热，使灯丝表面释放出所谓的“热离子电子”，除了增加热灯丝以提高弧光等离子

体的电子浓度之外，为了再提高等离子体内的电子与气体分子之间的碰撞频率，通

常在弧光反应室的外围加装磁铁，利用电磁力，使等离子体内的电子以螺旋式的行

径运动，以提高离子的浓度。根据电磁学的原理,磁场中的带电粒子会发生偏转,如

果带电粒子以垂直于磁场或与磁场成一角度(不能与磁场平行)的速度进入磁场,那

么在洛仑磁力的作用下,带电粒子将作园周或螺旋状的旋转运动,其运动半径为

R=mvsinθ/qB,我们会发现粒子的运动半径与粒子的运动速度成正比,与磁场强度成

反比(对于电子来讲质量与电荷量都是常量).也就是磁场越弱或运动速度越大粒子

的运动半径就越大,反之就小.

与运动速度相关的是起弧电压,与磁场相关的是磁场电流.这两个物理量都是可

控的,我们可以通过调节这两个物理量去控制电子的运动半径.

那么半径是大好呢还是小好?这没有一个固定值,但存在一个范围.在这个范围内

运动半径都是可以的.但如果超出此范围就不好了,那么会出现什么情况呢?有二种

状态.

第一,半径很大.己经不能形成螺旋状运动,电子只是作曲线运动