H2在SiO2中裂解机制的第一性原理研究 (2).docx

摘要

PAGEIX

PAGEVI

论文题目：H2在SiO2中裂解机制的第一性原理研究

摘要

本文通过使用VASP计算软件，以及MaterialStudio和p4vasp软件对H2在SiO2中裂解机制进行了研究。通过查阅相关文献，以及学习相关软件的操作，对相关研究机理和实验现象有了初步的认识。

首先通过查阅文献确定了研究目标，选取α?石英作为研究目标。以及确定了两种研究的缺陷体系，主要研究的氧空位缺陷是Eγ和Eδ两种。在体系优化上，先没有缺陷的二氧化硅进行驰豫优化，在驰豫优化的同时对平面波截断能进行测试，最终选取400eV作为截断能。在优化后的二氧化硅基础上，构造Eγ

进一步