学习情景二石英预制棒制造.pptVIP

光纤光缆制备光电子技术专业-国家重点建设示范性专业PCVD（等离子体化学汽相沉积）原理图PCVD与MCVD工艺的相同点：它们都是在高纯石英玻璃管管内进行气相沉积和高温氧化反应；01PCVD与MCVD的区别02PCVD的特点：在石英管里面长，沉积和熔缩在两台设备上。03光电子技术专业-国家重点建设示范性专业04光纤光缆制备05PCVD工艺流程具体步骤：光电子技术专业-国家重点建设示范性专业PCVD与MCVD工艺的不同点：热源和反应机理，PCVD工艺用的热源是微波，其反应机理为微波激活气体产生等离子使反应气体电离，电离的反应气体呈带电离子。带电离子重新结合时释放出的热能熔化气态反应物形成透明的石英沉积层。沉积：沉积是借助低压等离子使流进高纯石英玻璃沉积管内气态卤化物和氧气在1000℃以上的高温条件下直接沉积成设计要求的光纤芯玻璃组成。光纤光缆制备②熔缩：沉积后的下一步就是把沉积管熔缩成实心棒。沿管子方向往返移动的石墨电阻炉对不断旋转的管子加热到大约2200摄氏度，在表面张力的作用下，分阶段将沉积好的石英管熔缩成一根实心棒（预制棒）。其熔缩现场如图图2－7PCVD预制棒制造工艺熔缩现场照片光电子技术专业-国家重点建设示范性专业光纤光缆制备③套棒：为获得光纤芯层与包层材料的适当比例，将熔缩后的石英棒套入一根截面积经过精心挑选的管子中，这样装配后即可以进行拉丝。⑤光纤测试：拉出的光纤要经过各种测试，以确定光纤的几何、光学和机械性能。④拉丝：套棒被安装在拉丝塔的顶部，下端缓缓放入约2100摄氏度的高温的炉中。此端融化后备拉成所需包层直径的光纤（通常为125CM）并进行在线双层涂覆和紫外固化。光电子技术专业-国家重点建设示范性专业光纤光缆制备PCVD预制棒制造工艺流程具体步骤简图：其中，a：保温炉b：谐振腔c：等离子体d：石英反应管e：磁控管f：真空泵；g：电加热炉h：沉积管I：芯棒j：套管k：拉丝PCVD预制棒制造工艺流程具体步骤简图光电子技术专业-国家重点建设示范性专业光纤光缆制备光纤光缆制备光电子技术专业-国家重点建设示范性专业光纤预制棒概念01简单的说就是必须在制成光纤前，先将经过提纯的原料制成一根满足一定性能要求的玻璃棒，其被称之为“光纤预制棒”或“母棒”。光纤预制棒的结构02光纤预制棒是控制光纤质量的原始棒体材料。组元结构为多层圆柱体，内层为高折射率的纤芯层，外层为低折射率的包层。图2-1大直径石英光纤预制棒外观图它应具有符合要求的折射率分布型式和几何尺寸。典型的光纤预制棒直径约为10～25mm，长度约为60～120cm。图2-1，2-2光纤预制棒的外观图光电子技术专业-国家重点建设示范性专业光纤光缆制备图2-2小直径石英光纤预制棒外观图石英光纤预制棒的制备方法主要采用的气相沉积法光电子技术专业-国家重点建设示范性专业光纤光缆制备光纤光缆制备目前最为成熟和目前国内外光纤制造企业广泛使用的为四中大的预制棒制备工艺为①外部汽相沉积工艺（简称OVD）②改良的化学汽相沉积工艺（简称MCVD）③微波等离子体化学汽相沉积工艺（简称PCVD）④轴向汽相沉积工艺（简称VAD）光电子技术专业-国家重点建设示范性专业§2.21外部气相沉积法——OVD预制棒制备工艺技术主要的原料掺杂剂以气态形式送入氢氧火焰喷灯，使之在氢氧焰中水解，生成石英（SiO2）玻璃微粒粉尘，然后经喷灯喷出，沉积于石英石墨或是氧化铝制作的“母棒”外表面，经过多次沉积，去掉母棒，再将中空的预制棒在高温下脱水，烧结成透明的实心玻璃棒，即为光纤预制棒。光纤光缆制备OVD制作预制棒的原理：光纤光缆制备光电子技术专业-国家重点建设示范性专业OVD法制作预制棒的原理图光纤光缆制备OVD法制作芯棒及抽芯——芯棒的脱水和烧结——延伸芯棒——在芯棒外沉积外包层。OVD具体工艺流程①沉积SOOT棒：即SiO2颗粒在火焰中生成，颗粒的粒径从几纳米到几百纳米不等，颗粒随着凝聚作用逐渐长大，被气流带动后沉积在靶棒上。②沉积结束后，需要将靶棒从疏松体中抽出。OVD沉积设备外观简如图2-3。OVD法制作芯棒及抽芯：光电子技术专业-国家重点建设示范性专业图2－3OVD沉积设备外观简图脱水及烧结：烧结主要是伴随脱水过程，其原理就是在高温下，通过在氯气、氦气条件下使SOOT棒致密化，透明化。OVD烧结热源可以为电感应炉或者石墨感应炉等。烧结中可以是SOOT棒从上往下移动，也可以是感应线圈从顶部移动到底部。炉温一般在1500度左右。OVD烧结设备外观结构如图2-4光电子技术专业-国家重点建设示范性专业光