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光刻技术与光刻胶材料的进展与未来趋势
目录
内容概要．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3
1.1光刻技术概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3
1.2光刻胶材料概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
光刻技术进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5
2.1传统光刻技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
2.1.1紫外光光刻技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7
2.1.2紫外光光刻胶的发展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9
2.2分辨率提升技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
2.2.1超分辨率光刻技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
2.2.2多曝光技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
2.2.3互补结构技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13
2.3高密度互连技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
2.3.1光刻胶的填充性能．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
2.3.23D集成技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
光刻胶材料进展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17
3.1光刻胶种类．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17
3.1.1光致抗蚀剂．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19
3.1.2电子束光刻胶．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
3.1.3紫外光光刻胶．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21
3.2材料性能提升．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22
3.2.1分辨率与对比度．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
3.2.2低温性能．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24
3.2.3化学稳定性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
3.3新型光刻胶材料．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26
3.3.1聚合物光刻胶．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28
3.3.2有机发光二极管光刻胶．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29
未来趋势分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30
4.1技术发展趋势．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31
4.1.1新型光源技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32
4.1.2光刻设备创新．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33
4.1.3软刻蚀技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34
4.2材料发展趋势．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36
4.2.1光刻胶材料性能优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37
4.2.2环境友好型光刻胶．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38
4.2.3生物基光刻胶．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．40
4.3应用领域拓展．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．41
4.3.1半导体行业．．．．．．．．．．．
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