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非晶氟化碳薄膜热稳定性的多维度探究:结构、影响因素与应用展望
一、引言
1.1研究背景与意义
随着现代科技的飞速发展,电子器件正朝着小型化、高性能化的方向不断迈进。在这一进程中,新型材料的研发与应用成为推动电子器件性能提升的关键因素之一。非晶氟化碳(α-C∶F)薄膜作为一种具有独特物理化学性质的新型材料,在电子器件、光学器件、微机电系统(MEMS)等众多领域展现出了广阔的应用前景。
在电子器件领域,随着集成电路的集成度不断提高,器件特征尺寸不断减小,金属布线的电阻和互联寄生电容问题日益凸显,这严重影响了信号传输的速度和质量,增加了功耗。为了解决这些问题,低介电常数材料的应用成为关键。非晶
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