无基膜高深宽比双面集成微结构元件的制作.pdfVIP

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2025-07-30 发布于山东
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无基膜高深宽比双面集成微结构元件的制作.pdf

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第２卷第期光学精密工程

７１

ｏｌ．２７Ｎｏ．１

Ｖ

ｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ

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年月ｐｇｇ

２０１９１ａｎ．２０１９

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文章编号１９（）００

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－－－

无基膜高深宽比双面集成微结构元件的制作

＊

，，，，

徐平黄燕燕张旭琳杨伟彭文达

（，）

深圳大学电子科学与技术学院微纳光电子技术研究所广东深圳５

１８０６０

摘：、，、

要基于双面集成微结构薄片元件在集成光学成像光束整形等方面的应用日益普及针对其中一些一体化高深宽比

——

，、—紫外压印改

结构在制作方面的难点问题本文提出一种无基膜支撑高深宽比的双面集成微结构元件的制作新方法

。，、；

进技术通过该方法成功地制作了无基膜高深宽比结构的集成导光板样品样品上下表面微结构形貌与金属模具在

，，、。，

误差范围内保持一致转印复制过程的物理结构形变小且样品的厚度整体均匀平整无翘曲实验结果表明本文提出

、，

的紫外压印改进技术方法能有效地制作无基膜支撑双面集成高深宽比

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