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2024年第53卷第5期热加工工艺ISSN1001-3814
Vol.53No.52024HotWorkingTechnologyCN61-1133/TG
引用格式:刘家宝,宋金鹏,高姣姣,等.烧结温度对氮化硅层状陶瓷材料微观组织和力学性能的影响[J].热加工工艺,2024,53(5):84-90.
DOI:10.14158/icnki.1001-3814
http:/rjggy@
烧结温度对氮化硅层状陶瓷材料
微观组织和力学性能的影响
刘家宝,宋金鹏,高姣姣,胡士恒,孟维其,王瑶1
(1.太原理工大学机械与运载工程学院精密加工山西省重点实验室,山西太原030024;2.太原理工大学航空航天
学院,山西太原030024)
摘要:采用交替铺层技术成功制备了以α-Si,N4为基体,Y.Os-MgO-WC和GdFs-MgO分别作为A层和B层添加
相的层状素坏。采用真空热压烧结技术,分别以烧结温度为1550、1600、1650、1700、1750℃,压力为30MPa,保温时间
为60min,制备了Si,N4-Y,O,-MgO-WC/SiN4-GdFs-MgO层状陶瓷材料,并研究了烧结温度对氮化硅层状陶瓷材料微观
组织和力学性能的影响。结果表明:氮化硅层状陶瓷材料的断裂韧度随着温度的升高先增后减,最高断裂韧度出现在烧
结温度为1650℃时,其中面断裂韧度为7.844MPa·ml2,层断裂韧度为7.294MPa·ml2。同时,层状陶瓷材料的抗弯强度
和硬度随烧结温度升高先减后增。当烧结温度为1550℃时,抗弯强度为841.797MPa,面维氏硬度为16.227GPa。此
外,层状陶瓷材料的断裂方式为穿晶断裂和沿晶断裂的混合模式
关键词:氮化硅层状陶瓷;烧结温度;微观组织;力学性能
中图分类号:TB33文献标识码:A文章编号:1001-3814(2024)05-0084-07
EffectsofSinteringTemperatureonMicrostructureandMechanicalProperties
ofSiliconNitrideLayeredCeramics
LIUJiabao,SONGJinpeng,GAOJiaojiao’,HUShiheng,MENGWeiqi,WANGYao
(1.ShanxiKeyLaboratoryofProcisionMachining,CollegeofMechanicalandVehicleEngineering,TaiyuanUniversityof
Technology,Taiyuan030024,China;2.CollegeofAeronauticsandAstronautics,TaiyuanUniversityofTechnology,Taiyuan
030024,China)
Abstract:Thealternatelayeringtechniquewasusedtosuccessfullypreparealayeredpowderbilletwithα-Si,N4asthe
matrix,Y,O,-MgO-WCandGdFs-MgOastheadditivephaseofAlayerandBlayer,respectively.Usingvacuumhotpressing
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