2025北方华创校招试题及答案.docVIP

2025北方华创校招试题及答案

单项选择题（每题2分，共10题）

1.半导体芯片制造中常用的光刻技术的主要作用是：

A.刻蚀芯片表面

B.图形转移

C.清洗芯片

D.掺杂杂质

2.以下哪种气体常用于半导体制造的刻蚀工艺？

A.氧气

B.氮气

C.氯气

D.氢气

3.北方华创主要从事的领域是：

A.软件开发

B.半导体装备制造

C.新能源汽车

D.生物制药

4.集成电路制造流程中，光刻之后的步骤通常是：

A.清洗

B.刻蚀

C.沉积

D.掺杂

5.衡量半导体设备性能的重要指标不包括：

A.精度

B.速度

C.重量

D.稳定性

6.下列哪种材料是半导体制造中常用的衬底材料？

A.玻璃

B.硅

C.铜

D.铝

7.半导体制造中的湿法刻蚀和干法刻蚀相比，湿法刻蚀的优点是：

A.精度高

B.各向异性好

C.成本低

D.无污染

8.北方华创的企业文化核心不包含：

A.客户为先

B.创新驱动

C.低价竞争

D.团队合作

9.以下哪个不是半导体制造中的关键工艺？

A.光刻

B.封装

C.焊接

D.刻蚀

10.半导体设备的维护周期主要取决于：

A.设备价格

B.设备使用频率

C.设备外观

D.设备产地

答案：1.B2.C3.B4.B5.C6.B7.C8.C9.C10.B

多项选择题（每题2分，共10题）

1.半导体制造中的光刻技术包括以下哪些环节？

A.涂胶

B.曝光

C.显影

D.刻蚀

2.北方华创的产品涵盖以下哪些领域？

A.集成电路

B.新能源

C.光伏

D.真空电子

3.半导体制造中常用的薄膜沉积方法有：

A.物理气相沉积

B.化学气相沉积

C.电镀

D.喷涂

4.提高半导体设备性能的途径有：

A.优化设计

B.采用新材料

C.改进制造工艺

D.增加设备体积

5.半导体制造中的清洗工艺目的包括：

A.去除杂质

B.改善表面平整度

C.防止氧化

D.增加导电性

6.以下属于北方华创企业价值观的有：

A.诚信

B.责任

C.创新

D.共赢

7.半导体芯片的封装形式有：

A.引脚式封装

B.球栅阵列封装

C.倒装芯片封装

D.贴片式封装

8.半导体制造中刻蚀工艺的要求包括：

A.高选择性

B.高刻蚀速率

C.低损伤

D.各向同性

9.影响半导体设备稳定性的因素有：

A.环境温度

B.电源稳定性

C.机械振动

D.操作人员数量

10.半导体制造中常用的掺杂方法有：

A.离子注入

B.扩散

C.溅射

D.蒸发

答案：1.ABC2.ABCD3.AB4.ABC5.ABC6.ABCD7.ABC8.ABC9.ABC10.AB

判断题（每题2分，共10题）

1.北方华创只专注于半导体设备的研发，不涉及生产环节。（）

2.光刻技术是半导体制造中决定芯片集成度的关键工艺。（）

3.半导体制造中，湿法刻蚀比干法刻蚀更环保。（）

4.提高半导体设备的速度可以不考虑稳定性。（）

5.硅是目前应用最广泛的半导体衬底材料。（）

6.北方华创的企业文化对企业发展没有实际作用。（）

7.半导体芯片制造完成后不需要进行测试。（）

8.封装工艺可以提高芯片的可靠性和稳定性。（）

9.半导体设备的维护只需要关注设备的硬件部分。（）

10.掺杂工艺可以改变半导体的电学性能。（）

答案：1.×2.√3.×4.×5.√6.×7.×8.√9.×10.√

简答题（总4题，每题5分）

1.简述北方华创在半导体制造领域的地位。

北方华创是国内半导体装备制造的领军企业，产品覆盖多个关键领域，技术先进，打破国外垄断，推动国内半导体产业自主可控发展，在国内外市场有较高声誉。

2.半导体制造中光刻工艺的重要性体现在哪些方面？

光刻工艺决定芯片图形的精度和尺寸，直接影响芯片的集成度、性能和功能，是制造高性能芯片的关键，推动半导体技术不断进步。

3.半导体设备维护的重要性是什么？

可保证设备正常运行，提高生产效率，减少故障停机时间，降低维修成本，延长设备使用寿命，确保产品质量稳定。

4.简述北方华创企业文化的意义。

企业文化能凝聚员工力量，形成共同目标和价值观，激励创新和团队合作，增强企业竞争力，提升企业形象和社会认可度。

讨论题（总4题，每题5分）

1.讨论北方华创在国际市场竞争中面临的挑战和机遇。

挑战有国外企业技术领先、品牌优势和贸易壁垒。机遇是全球半导体需求增长、新兴技术带来新需求，