氧化物阻变存储器：电极材料与工艺参数的深度关联及特性探究.docx

氧化物阻变存储器：电极材料与工艺参数的深度关联及特性探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在信息技术飞速发展的当下，数据量呈爆炸式增长，对存储技术的性能提出了前所未有的挑战。传统的存储技术，如闪存（FlashMemory）和动态随机存取存储器（DRAM），在存储密度、读写速度和能耗等方面逐渐难以满足大数据时代对海量数据存储和快速访问的需求。在此背景下，氧化物阻变存储器（Oxide-basedResistiveRandomAccessMemory，O-RRAM）因其具有结构简单、微缩性好、操作速度快、功耗低、与CMOS工艺兼容等诸多优点，被国际半导体技术路线图（ITRS2009