2026年中国光刻机行业市场发展现状研究及投资战略咨询报告.docx

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2026年中国光刻机行业市场发展现状研究及投资战略咨询报告

第一章光刻机行业概述

1.1行业定义及分类

光刻机，作为半导体产业的核心设备，其主要功能是在硅片上精确地制造出微小的电路图案。根据光刻机的应用领域和精度，我们可以将其分为两大类：半导体光刻机和光学光刻机。半导体光刻机主要用于半导体芯片的制造，其分辨率可以达到10纳米以下，是现代半导体产业不可或缺的设备。而光学光刻机则广泛应用于光学器件、液晶显示屏等领域，其分辨率通常在微米级别。

半导体光刻机根据曝光光源的不同，可以分为紫外光（UV）光刻机、极紫外光（EUV）光刻机和深紫外光（DUV）光刻机。其中，EU