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新型微弧氧化工艺参数优化研究
目录
文档概要．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
1.1研究背景及意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5
1.1.1微弧氧化技术发展概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8
1.1.2工艺参数优化的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8
1.2国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
1.2.1微弧氧化表面处理技术研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12
1.2.2工艺参数优化方法综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14
1.3研究内容及目标．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19
1.4研究方案及技术路线．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
新型微弧氧化工艺原理及设备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22
2.1氧化机理分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26
2.1.1析出相形成机制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28
2.1.2析出相的影响因素．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32
2.2主要工艺参数分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33
2.2.1电流密度的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35
2.2.2电压的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37
2.2.3温度的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．39
2.2.4电解液成分的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．41
2.2.5极距的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43
2.3实验设备介绍．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．45
2.3.1电源系统．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．47
2.3.2电解槽．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．49
2.3.3温度控制装置．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．54
2.3.4辅助设备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．55
实验方案设计．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．57
3.1实验材料及规格．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．59
3.2实验方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．63
3.2.1膜层制备方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．64
3.2.2参数控制方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．65
3.3正交实验设计．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．67
3.3.1因素水平确定．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．69
3.3.2正交表选择．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．72
3.3.3实验结果分析方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．73
实验结果与分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．75
4.1膜层外观形貌分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．78
4.1.1膜层表面形貌观察．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．80
4.1.2膜层截面形貌观察．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．
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