北方华创秋招面试题及答案.docVIP

北方华创秋招面试题及答案

单项选择题（每题2分，共10题）

1.半导体制造中，光刻的主要目的是（）

A.去除杂质B.定义电路图案C.增加导电性D.提高芯片强度

2.以下哪种气体常用于刻蚀工艺（）

A.氧气B.氮气C.氯气D.氢气

3.北方华创主要从事（）业务。

A.食品加工B.半导体装备制造C.服装生产D.汽车制造

4.芯片制造流程中，晶圆清洗在（）环节进行。

A.光刻前B.光刻后C.刻蚀后D.以上都有

5.衡量半导体设备性能的关键指标不包括（）

A.产能B.精度C.重量D.稳定性

6.薄膜沉积技术可分为物理和化学方法，以下属于物理方法的是（）

A.CVDB.PVDC.ALDD.MOCVD

7.洁净室等级中，数字越小表示（）

A.洁净度越高B.洁净度越低C.与洁净度无关D.温度越低

8.在半导体生产中，静电可能会导致（）

A.设备损坏B.人员触电C.环境污染D.气体泄漏

9.北方华创的企业文化强调（）

A.创新与责任B.娱乐与休闲C.农业与科技D.贸易与金融

10.半导体芯片的核心材料是（）

A.铜B.硅C.铝D.铁

多项选择题（每题2分，共10题）

1.北方华创生产的半导体设备包括（）

A.刻蚀机B.光刻机C.薄膜沉积设备D.清洗机

2.半导体制造中的常见工艺有（）

A.光刻B.刻蚀C.掺杂D.封装

3.洁净室管理需注意（）

A.人员着装规范B.设备清洁C.温湿度控制D.静电防护

4.下列属于北方华创企业价值观的有（）

A.客户为先B.团队协作C.追求卓越D.创新驱动

5.半导体产业的发展趋势包括（）

A.集成度提高B.尺寸缩小C.性能增强D.成本降低

6.影响刻蚀工艺效果的因素有（）

A.气体流量B.温度C.压力D.电源功率

7.北方华创的产品应用领域有（）

A.集成电路B.新能源C.智能终端D.航空航天

8.半导体设备的维护要点包括（）

A.定期保养B.故障及时修复C.数据记录D.操作人员培训

9.芯片制造过程中的质量控制包括（）

A.原材料检验B.工艺监测C.成品测试D.包装设计

10.以下关于北方华创研发能力的描述，正确的有（）

A.拥有专业研发团队B.不断推出新产品C.研发投入高D.与高校合作研发

判断题（每题2分，共10题）

1.北方华创只生产单一类型的半导体设备。（）

2.光刻工艺对精度要求不高。（）

3.洁净室可以完全杜绝灰尘。（）

4.半导体设备的稳定性对生产效率影响不大。（）

5.北方华创注重技术创新。（）

6.刻蚀工艺不会影响芯片的性能。（）

7.半导体制造中，掺杂是为了改变半导体的电学性质。（）

8.北方华创的产品不面向国际市场。（）

9.静电对半导体生产没有危害。（）

10.薄膜沉积的质量会影响芯片的可靠性。（）

简答题（每题5分，共4题）

1.简述北方华创在半导体行业的地位。

2.列举半导体制造中光刻工艺的关键步骤。

3.说明洁净室对半导体生产的重要性。

4.北方华创的创新体现在哪些方面？

讨论题（每题5分，共4题）

1.讨论半导体产业面临的挑战和机遇。

2.北方华创如何应对激烈的市场竞争？

3.谈谈你对半导体设备国产化的看法。

4.若你加入北方华创，能为公司带来什么价值？

答案

单项选择题

1.B

2.C

3.B

4.D

5.C

6.B

7.A

8.A

9.A

10.B

多项选择题

1.ACD

2.ABCD

3.ABCD

4.ABCD

5.ABCD

6.ABCD

7.ABCD

8.ABCD

9.ABC

10.ABCD

判断题

1.×

2.×

3.×

4.×

5.√

6.×

7.√

8.×

9.×

10.√

简答题

1.北方华创是国内半导体装备龙头企业，产品种类多，技术先进，在国内市场份额高，参与行业标准制定，代表国内半导体装备制造较高水平，提升了我国半导体产业自主可控能力。

2.光刻关键步骤：涂胶，在晶圆表面涂光刻胶；曝光，用光刻机将掩膜版图案投射到光刻胶上；显影，去除曝光或未曝光的