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2025年大学《整合科学》专业题库——化学工艺在材料制备中的应用
考试时间:______分钟总分:______分姓名:______
一、选择题(每小题2分,共20分。请将正确选项的代表字母填涂在答题卡相应位置。)
1.下列哪种化学工艺通常适用于制备具有高纯度、晶体结构可控的薄膜材料?
A.溶胶-凝胶法
B.等离子体化学气相沉积
C.静电纺丝法
D.自蔓延高温合成
2.在金属陶瓷的制备过程中,烧结工艺的主要目的是什么?
A.促进前驱体溶液的均匀混合
B.完成化学反应,降低体系自由能,形成致密、有特定相结构的固体
C.快速去除材料中的有机添加剂
D.在材料表面形成均匀的薄膜
3.某种气相沉积工艺利用前驱体气体在热衬底上发生分解并沉积成膜,该工艺通常需要较高的真空度,此工艺最可能是:
A.溶胶-凝胶法
B.热氧化法
C.分子束外延
D.喷雾热解法
4.影响溶胶-凝胶法制备陶瓷材料凝胶化速率的关键因素之一是:
A.反应器的体积
B.前驱体溶液的pH值
C.沉积速率
D.最终产品的熔点
5.对于水热法制备材料,通常要求在密闭的容器中进行,其主要优势在于:
A.可以在常压下进行
B.能在高温高压协同作用下促进反应,获得特殊相结构或形貌
C.操作成本极低
D.适用于所有类型的材料制备
6.在化学气相沉积(CVD)工艺中,反应物主要通过什么方式进行传输?
A.液体滴加
B.气相输运
C.固体颗粒输送
D.离子束轰击
7.静电纺丝技术制备纳米纤维的关键驱动力是:
A.化学反应热
B.重力
C.高压电场
D.毛细管作用
8.提高化学工艺中目标产物产率的一个常用策略是优化反应动力学,以下哪种措施通常能加快正向反应速率?
A.降低反应温度
B.降低反应物浓度
C.增加催化剂
D.增加产物浓度
9.在制备某些精细陶瓷材料时,常采用热压烧结工艺,其主要区别于常规烧结之处在于:
A.不需要加热
B.在高温下同时施加压力
C.使用非氧化性气氛
D.烧结时间极短
10.化学工艺参数(如温度、压力、气氛)对材料制备过程的影响,最终体现在对材料的哪个或哪些方面产生改变?
A.成本
B.生产效率
C.相结构、微观结构、化学成分、力学/物理/化学性能
D.工艺设备的磨损速度
二、简答题(每小题5分,共20分。请将答案写在答题卡指定位置。)
11.简述气相沉积工艺与液相合成工艺在基本原理和典型应用上的主要区别。
12.解释什么是化学气相沉积(CVD)中的等离子体增强化学气相沉积(PECVD),并说明其相较于传统CVD的优势。
13.阐述溶胶-凝胶法作为一种材料制备工艺,在制备玻璃、陶瓷、薄膜等不同类型材料时可能展现出的不同特点或应用侧重。
14.说明在材料制备的化学工艺过程中,引入催化剂通常起到的作用,并举例说明催化剂在某一具体工艺中的应用。
三、填空题(每空1分,共10分。请将答案写在答题卡指定位置。)
15.化学工艺是将______转化为______的物理化学过程,广泛应用于______、______等多种材料的制备。
16.在气相沉积工艺中,根据前驱体状态的不同,可以分为______沉积和______沉积两大类。
17.影响烧结过程的主要因素包括______、______、______和烧结气氛等。
18.溶胶-凝胶法通常经历______、______和______三个主要步骤最终形成凝胶。
19.分子束外延(MBE)是一种在超高真空条件下,利用______将原子或分子束流直接沉积到加热的衬底上制备薄膜的技术。
四、论述题(每小题10分,共30分。请将答案写在答题卡指定位置。)
20.以一种你熟悉的材料(如硅太阳能电池用硅片、储氢合金、或某种功能陶瓷)为例,详细描述其主要的化学制备工艺流程,并分析该工艺流程中关键步骤的原理以及影响最终材料性能的主要工艺参数。
21.比较并论述气相沉积(如CVD、PECVD)和液相合成(如溶胶-凝胶、水热)两种主要材料制备方法的各自优缺点,并说明在何种情况下选择其中一种方法可能更为合适。
22.设计一个简单的化学工艺流程,用于制备氧化锌(ZnO)纳米粉末。请描述主要步骤、涉及的关键化学原理或反应、需要控制的工艺参数(至少列举三个),并简述如何控制或表征产
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