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北方华创校招笔试题及答案

单项选择题（每题2分，共10题）

1.半导体制造中，光刻的作用是（）

A.去除杂质B.图形转移C.生长薄膜D.提高导电性

2.以下哪种气体常用于刻蚀工艺（）

A.氧气B.氮气C.氯气D.氢气

3.集成电路制造流程中，氧化工序的主要目的是（）

A.增加导电性B.形成绝缘层C.去除杂质D.提高硬度

4.北方华创主要涉及的领域不包括（）

A.半导体装备B.新能源汽车C.真空装备D.精密电子元器件

5.下列不属于薄膜沉积方法的是（）

A.物理气相沉积B.化学气相沉积C.离子注入D.溅射沉积

6.半导体芯片制造中，衡量芯片性能的关键指标是（）

A.颜色B.尺寸C.集成度D.重量

7.以下哪种设备用于检测晶圆表面缺陷（）

A.光刻机B.刻蚀机C.检测显微镜D.薄膜沉积设备

8.北方华创的企业文化核心价值观不包含（）

A.以客户为中心B.以人为本C.追求利润最大化D.持续创新

9.硅片是半导体制造的基础材料，其主要成分是（）

A.二氧化硅B.单晶硅C.多晶硅D.碳化硅

10.半导体制造过程中，清洗工序的目的是（）

A.去除表面杂质B.增加表面光泽C.改变材料性质D.提高温度

多项选择题（每题2分，共10题）

1.北方华创的产品类型包括（）

A.刻蚀机B.光刻机C.电子束蒸发台D.反应离子刻蚀系统

2.半导体制造的主要工艺流程有（）

A.光刻B.刻蚀C.薄膜沉积D.封装测试

3.常见的半导体材料有（）

A.硅B.锗C.砷化镓D.碳化硅

4.北方华创在行业内的优势有（）

A.技术研发能力强B.产品种类丰富C.市场份额高D.品牌知名度高

5.光刻工艺涉及的关键设备有（）

A.光刻机B.光刻胶涂布机C.显影机D.刻蚀机

6.刻蚀工艺的分类有（）

A.干法刻蚀B.湿法刻蚀C.物理刻蚀D.化学刻蚀

7.薄膜沉积工艺的特点包括（）

A.形成均匀薄膜B.控制薄膜厚度C.提高材料硬度D.改善材料导电性

8.半导体制造对环境的要求包括（）

A.洁净度高B.温度稳定C.湿度适宜D.电磁干扰小

9.北方华创的研发方向包括（）

A.先进半导体装备技术B.新能源装备技术C.人工智能技术D.量子计算技术

10.集成电路制造中，掺杂的方法有（）

A.离子注入B.扩散C.溅射D.蒸发

判断题（每题2分，共10题）

1.北方华创只专注于半导体装备制造。（）

2.光刻工艺是半导体制造中最重要的工艺之一。（）

3.刻蚀工艺只会去除不需要的材料，不会影响其他部分。（）

4.薄膜沉积工艺只能在硅片表面进行。（）

5.半导体制造过程中，清洗工序可有可无。（）

6.北方华创的企业文化强调团队合作。（）

7.硅片的纯度对半导体芯片性能没有影响。（）

8.光刻胶在光刻工艺中起到保护作用。（）

9.干法刻蚀比湿法刻蚀更精确。（）

10.北方华创在国际市场上没有竞争力。（）

简答题（每题5分，共4题）

1.简述北方华创在半导体装备领域的地位。

北方华创是国内半导体装备的领军企业，技术实力强，产品种类丰富，涵盖刻蚀、沉积等多类设备，在国内市场份额较高，部分产品达国际先进水平，推动我国半导体装备国产化进程。

2.说明光刻工艺的基本原理。

光刻是利用光刻胶感光特性，通过光刻机将掩膜版图形投射到涂有光刻胶的硅片上，经曝光、显影等步骤，把图形转移到硅片表面光刻胶上，为后续刻蚀等工序做准备。

3.刻蚀工艺的作用是什么？

刻蚀工艺用于去除硅片表面特定区域的材料，实现图形从光刻胶到下层材料的精确转移，是半导体制造中形成电路图案、定义器件结构的关键步骤。

4.北方华创的企业文化有什么意义？

其企业文化以客户、创新等为核心，能凝聚员工力量，提升团队协作，激发创新活力，指导企业经营决策，增强企业市场竞争力，推动企业持续健康发展。

讨论题（每题5分，共4题）

1.讨论北方华创面临的市场挑战。

北方华创面临国际巨头竞争，其技术、品牌和市场份额有优势；国内同行追赶也带来压力。同时，半导体技术迭代快，研发投入大，若跟不上节奏易被淘汰，且原材料价格波动影响成本。

2.