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真空镀工艺;2;一.NCVM工艺原理;VM=VacuumMetalization(真空镀膜)
主要原理是﹕在真空状态下﹐将欲镀物质(如金属或合金或其化合物)通过直接或间接加热﹐使之熔解﹐然后蒸发(或直接由固体升华为气体)﹐获得足够能量的原子或分子飞向并沉积在工件表面﹐沉积一定厚度的膜层。
NCVM=Non-conductiveVacuumMetalization
TNCVM=TintedNCVM;适用底材:塑胶(PC、PC+ABS、ABS)、玻璃、金属
靶材:常用的是Al,Cr,Sn,Ni,Si,SiO等材料
加热材料:钨、钼、钽材料制成的丝
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