氧化锡陶瓷靶材：制备工艺、性能调控与应用探索.docx

氧化锡陶瓷靶材：制备工艺、性能调控与应用探索

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的浪潮中，半导体集成电路和透明导电薄膜等领域取得了令人瞩目的进展，这些领域的进步对材料性能提出了愈发严苛的要求。氧化锡陶瓷靶材作为一种具有卓越性能的关键材料，在上述领域中扮演着举足轻重的角色，其研究与开发具有深远的意义。

半导体集成电路是现代电子设备的核心，从智能手机、电脑到各种智能穿戴设备，都离不开它的支持。随着电子产品向小型化、高性能化方向发展，对半导体集成电路的性能要求也不断提高。在芯片制造过程中，溅射靶材是不可或缺的关键材料之一，它用于在硅片等衬底上沉积各种功能薄膜，这些薄膜的质量和性能直