颗粒硅表面粉尘的测定 浊度法标准研究报告.docxVIP

YS/T1754-2025颗粒硅表面粉尘的测定浊度法标准发展报告

EnglishTitle:DevelopmentReportonStandardYS/T1754-2025–DeterminationofSurfaceDustonGranularSiliconbyTurbidityMethod

摘要

本报告围绕有色金属行业标准YS/T1754-2025《颗粒硅表面粉尘的测定浊度法》的制定背景、技术内容、实施意义及未来展望展开系统阐述。随着光伏产业和半导体行业的快速发展，颗粒硅作为多晶硅生产的重要中间产品，其表面粉尘含量直接影响后续拉晶工艺的成品率与产品质量。然而，长期以来行业内缺乏统一、高效的粉尘测定方法，导致不同企业间检测结果可比性差，制约了产业链协同发展。本标准基于浊度法原理，通过建立标准化的样品前处理、浊度测量及结果计算流程，实现了对颗粒硅表面粉尘含量的快速、准确测定。报告详细介绍了标准的起草单位、技术路线、关键参数确定依据及验证试验结果，并深入分析了标准对提升颗粒硅质量控制水平、促进国际贸易互认、推动绿色低碳制造的重要作用。结论指出，该标准的发布填补了国内颗粒硅表面粉尘测定领域的空白，为行业提供了科学、统一的检测依据，未来应进一步推动标准宣贯、仪器校准及国际标准化工作，助力我国多晶硅产业高质量发展。

关键词：颗粒硅；表面粉尘；