CN119678105A 半导体基板的制造方法及膜形成用组合物 （Jsr株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119678105A

(43)申请公布日2025.03.21

(21)申请号202380058763.9

(22)申请日2023.07.11

(30)优先权数据

2022-1288272022.08.12JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.02.10

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0256162023.07.11

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/034311JA2024.02.15

(71)申请人JSR株式会社

地址日本东京港区东新桥一丁目9番