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- 2016-12-09 发布于重庆
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5正交实验2
极差分析法简单明了,通俗易懂,计算工作量少便于推广普及。但这种方法不能将试验中由于试验条件改变引起的数据波动同试验误差引起的数据波动区分开来,也就是说,不能区分因素各水平间对应的试验结果的差异究竟是由于因素水平不同引起的,还是由于试验误差引起的,无法估计试验误差的大小。此外,各因素对试验结果的影响大小无法给以精确的数量估计,不能提出一个标准来判断所考察因素作用是否显著。为了弥补极差分析的缺陷,可采用方差分析。 上述均属无重复正交试验结果的方差分析,其误差是由“空列”来估计的。然而“空列”并不空,实际上是被未考察的交互作用所占据。这种误差既包含试验误差,也包含交互作用,称为模型误差。若交互作用不存在,用模型误差估计试验误差是可行的;若因素间存在交互作用,则模型误差会夸大试验误差,有可能掩盖考察因素的显著性。这时,试验误差应通过重复试验值来估计。所以,进行正交试验最好能有二次以上的重复。正交试验的重复,可采用完全随机或随机单位组设计。 3、要将200mL的某酸性溶液中和到中性(可用pH试纸判断),已知需加入20~80mL的某碱溶液,试问使用哪种单因素优选法可以较快的找到最合适的碱液用量(55mL),并说明优选过程。 一个集成电路的制造工艺需要印制出宽度为3微米的微晶粒线,觉得微晶粒线宽的主要影响因素是曝光时间,曝光时间越长微晶粒线越宽。所用设备的曝光时间分为3
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