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EDN China 工业控制电子设计技术研讨会工业控制电子设计技术研讨会 工业控制电子设计技术研讨会工业控制电子设计技术研讨会 时间： 年 月 日 2011 5 19 地点：北京国家会议中心 主办方： 《电子设计技术》 EDN China 协办方：汉诺威米兰展览（上海）有限公司 会议背景会议背景 会议背景会议背景 工业电子门类繁多、需求各异，但有些需求是一致的，如要求高电压、大电流、抗干扰、工 2 作温度范围宽、散热良好等。另外，尽管新兴的 I C、CAN 等总线技术已经深入人心，传 统的 RS-485 乃至 RS-232 串行接口依然在很多设备中发挥着余热。对于电源应用，工业电 子设备需要高耐压的 MOSFET、IGBT，可执行复杂管理功能及完善保护功能的 IC；对于控 制应用，需要宽温MCU 和DSP、多个通信接口、足够的处理能力和抗干扰设计；对于电机 控制应用，基于 DSP 的数字控制技术日臻复杂和完善，并随着处理器性能的提高，能够实 现更为复杂和精确的控制，而一些融合了功率器件和硬件控制器的组合方案为用户提供了简 洁、方便、廉价的实施方案。 EDN China 在北京举办的工业控制电子设计技术研讨会，将涉及高功率 IGBT、高压 MOSFET、电源管理、高性能的MCU 和 DSP、工业用串行通信IC 等技术话题，这为提供 工业及行业用IC 的相关厂商提供了近距离接触用户，掌握用户需求的机会。 EDN 仅在北京地区的会员总计54,000 人。这些工业和专用设备的研发设计人员，迫切需要 获得最新的高性能器件信息，以及相关的技术指导。我们还利用了很多其他资源推广工业论 坛。我们高水平的演讲内容将为渴望技术知识的工程师带来信息饕鬄大餐。 技术主题技术主题 技术主题技术主题 高速数据转换ADC 方案 外围设备接口技术的选择 平台化设计方案在工业电子设计中的应用 嵌入式软件快速开发差异化人机界面 利用FPGA 开发自定义控制系统 多核与单核处理器架构的选择要素 面向工业电子设计的开发与测试工具 会议人员与规模会议人员与规模 会议人员与规模会议人员与规模 工业控制、机电、通信、汽车工程、医疗电子领域的研发和设计工程师、技术管理人员 规模：150-200 人 演讲安排演讲安排 演讲安排演讲安排 （ 分钟） 个演讲席位 Keynote 60 ,1 （ 分钟） 个演讲席位 Speech 45 ,5 有关论坛的具体细节，欢迎致电贵公司所在区域的EDN China代表处咨询， 或访问网站：/industry