厚薄膜材料与器件 第二章 薄膜制备的基础理论.ppt

第二章 薄膜的基础理论 第一节 薄膜的形成 薄膜的制造方法可以分为： ? 物理方法; ? 化学方法． 现以物理气相沉积 (PVD) 为例讨论薄膜的形成过程。 薄膜形成的过程主要包括三个环节： 单体的吸附 原子团的形成—成核 薄膜的形成—从孤岛到连续薄膜层 1. 单体的吸附 一个原子或分子从气相到达基片表面，再被吸附住，是一个比较复杂的过程，涉及以下几方面的问题： （1）基片表面的位能分布 （2）气相原子在基片表面的吸附 （3）吸附原子在基片表面上的状态 （1）基片表面的位能分布 物理吸附 基片对外来原子的物理吸引力为：范德华力。 对原子和非极性分子来说，产生范德华力的是基片表面原子的瞬时偶极矩，如二极矩和四极矩。 范德华力是一种电力。因此，物理吸附的本质是由于瞬时极化。 化学吸附 化学吸附时，在被吸附的原子(或分子)和基片表面原子之间发生了电子转移或共有，形成化学键，产生新的分子和物质。 化学吸附实质上是在基片表面发生的化学反应，即被吸附原子与基片表面最活泼的原子发生化学反应，形成新的化合物。 若吸附的是分子，被吸附体或者直接与基片表面相结合，或者先被离解成原子或自由基，而后再与基片表面相结合生成新的化合物。 第二节 薄膜的基本结构 薄膜的结构分： （1）薄膜的组织结构 无定形结构 包括无定形结构和类无定形结构。