溅射法制备多层膜沉积速率的标定.pdfVIP

第 卷 第 期 光学 精密工程 １８ １２ 　 Ｖｏｌ．１８ Ｎｏ．１２ 　 　 　　 　　　　 　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　　　 　　　 　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２０１０ １２ Ｄｅｃ．２０１０ 　 　 　 　 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２０１０１２２５３００７ 　 溅射法制备多层膜沉积速率的标定 张立超 （中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室，吉林 长春 １３００３３） 摘要：为消除溅射沉积多层膜过程中产生的膜厚随机误差，实现多层膜膜厚的精确控制，提出了一种精确标定薄膜沉积 速率的方法。该方法通过对多次实验结果进行最小二乘拟合得到薄膜沉积速率。对随机误差基本特性的分析表明，随 着实验次数的增加，沉积速率将逐渐逼近真值。基于这一原理，可以对薄膜的沉积速率进行精确标定，同时提取出膜厚 随机误差，进而确定镀膜机的膜厚控制精度，获得精确控制多层膜膜厚所需要的完整信息。选用两种精度不同的沉积设 备，采用提出的方法对所制备的多层膜进行了测试。结果表明，多层膜的膜厚控制精度随沉积设备而异：其中低成本的 普通镀膜机只能实现 ０．１ｎｍ的膜厚控制精度；而另一台性能较高的镀膜机的膜厚控制精度优于０．０１ｎｍ。 关 键 词：多层膜；溅射法；沉积速率；随机误差；控制精度 　 　 中图分类号： 文献标识码： ： ／ Ｏ４８４．４ Ａ 犱狅犻１０．３７８８ＯＰＥ２５３０ 　　 　　 犆犪犾犻犫狉犪狋犻狅狀狅犳犱犲狅狊犻狋犻狅狀狉犪狋犲狊狅犳犿狌犾狋犻犾犪犲狉 狆 狔 犮狅犪狋犻狀狊犫 狊狌狋狋犲狉犻狀 犱犲狅狊犻狋犻狅狀狊 犵 狔狆 犵 狆 ＺＨＡＮＧＬｉｃｈａｏ （ ， ， 犛狋犪狋犲犓犲 犔犪犫狅狉犪狋狅狉 狅 犃 犾犻犲犱犗 狋犻犮狊 犆犺犪狀犮犺狌狀犐狀狊狋犻狋狌狋犲狅 犗 狋犻犮狊 犉犻狀犲 狔 狔 犳 狆狆 狆 犵 犳 狆 ， ， ） 犕犲犮犺犪狀犻犮狊犪狀犱犘犺狊犻犮狊 犆犺犻狀犲狊犲犃犮犪犱犲犿 狅 犛犮犻犲狀犮犲狊．犆犺犪狀犮犺狌狀１３００３３ 犆犺犻狀犪 狔 狔 犳 犵 ： 犃犫狊狋狉犪犮狋Ａｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎｍｅｔｈｏｄｆｏｒｄｅｏｓｉｔｉｏｎｒａｔｅｓｏｆｍｕｌｔｉｌａｅｒｃｏａｔｉｎｓｂ ｓｕｔｔｅｒｉｎ ｄｅｏｓｉｔｉｏｎｓ ｐ