SJT 11275-2002 卧式液相外延系统通用规范.pdfVIP

ICS 29.260 L 92 备案号:10995-2002 中华人民共和国电子行业标准 SJ/T 11275-2002 卧式液相外延系统通用规范 Generic specification for horizontal liquid phase epitaxial system 2002-10-30发布 2003-03-01实施 中华人民共和国信息产业部 发布 标准分享网 免费下载 SJ/T 11275-2002 目 次 前言.，.……，… …，，...… …，..… … ，...…… ，二 ，..…，，… 11 1范围..… ，.… … “.，.，.… 卜卜.… ，，.……，. …，...…… ，…… 1 2规范性引用文件..……，...……，……1 3术语和定义.……，……，二 ，…… ，二1 4 产品型号及命名方法 .… ，_.. .… … ‘.… 二二，.，.. … ，… … _.，，.，‘2 5技术要求…… 2 6试验方法..… …，..…，，，.…，…… ，，..… 、.… ，…‘二，，，..……，二，.，二3 7 检验规则 .，..… ，… … ，… ，…… 6 8标志、包装、运输、贮存…，.，.…‘二‘…，... ……，…… 7 标准分享网 免费下载 SJ/r 11275--2002 前 言 本规范是根据GB/P 1.1-2000《标准化工作导则 第1部分:标准的结构和编写规则》. GB/f 1.3 -1997《标准化工作导则 第3部分:产品标准编写规定》的要求进行编写的。规范中，通用技术条件 参照了SJ 1794《半导体器件生产用扩散炉通用技术条件》。测试条件、测试设备及仪器、恒温区温度 精度测试、单点稳定性测试，参照了SJ 2065《半导体器件生产用扩散炉测试方法》。安全设计，部分参 照了GB 16754-1997 Q机械安全 急停 设计原则》。降温速率、降温过程恒温区温度的平坦度等技 术要求，是根据液相外延设备的技术特点制定的。 本规范由中国电子技术标准化研究所(CESI )归口。 本规范起草单位:信息产业部电子第四十八研究所。 本规范主要起草人:袁章其、刘日喜、王理政、李军阳。 标准分享网 免费下载 SJ/T 11275-2002 3. 6 降温过程恒温区温度的平坦度 flatzone smoothness during cooling 恒温区温度降温过程任意一时刻沿恒温区长度方向的温度均匀性。 4 产品型号及命名方法 根据SJ/T 37-1996《电子工业专用设备型号编制与命名方法》的规定，型号及命名方法如下: 企业代号 产品设计的顺序 温度 (以100℃为单位) 种，液相外延设备 型，气相淀积及外延设备 类，表面处理和薄膜淀积设备 示例:XX企业所生产的温度为1 100℃的第一代液相外延系统型号为M8