半导体器件物理 Chapter3 pn结及金属半导体接触.pptVIP

  • 44
  • 0
  • 约4千字
  • 约 36页
  • 2017-09-10 发布于湖北
  • 举报

半导体器件物理 Chapter3 pn结及金属半导体接触.ppt

金属-半导体接触势垒 由于金属与半导体的功函数不同,它们相互紧密接触时,会产生接触电势差。 金属与N型半导体接触,WmWs 时 当它们紧密接触时,电子会从费米能级高的地方向低的地方流动,所以半导体中电子会向金属中流动,使金属表面荷负电,电子能量提高,而半导体表面形成正的空间电荷区;当整个系统达到平衡时,金属和半导体形成统一的费米能级。 金属与N型半导体接触,WmWs 时 此时,电子将从金属流向半导体,在半导体表面形成负的空间电荷层,使得半导体侧电子能量提高;在空间电荷区中表面附近能带向下弯曲,电子浓度将比体内的平衡浓度大得多,它是多子(电子)积累层,是一个高电导层;这种情况下,多子(电子)在两种材料中的相互转移,不需要越过势垒就可以运动到对方,通常称为多子反阻挡层。 肖特基二极管和pn结二极管的比较: 1)pn结正向是少数载流子注入,反向是少数载流子抽取。 肖特基势垒电流由多数载流子传导。 2)pn结中由于少子储存效应,影响了开关速度和高频特性。 肖特基势垒中多子并不积累,直接漂走,频率特性不受电荷存储时间的限制,具有更好的高频特性。 3)多子电流远高于少子电流,肖特基势垒中的饱和电流远高于有同样面积的pn结。 对同样的电流,在肖特基势垒上加的电压要少的多。 六、肖特基二极管特性 什么是平衡pn结? 解释平衡pn结的空间

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档