微波CVD制备硅薄膜类金刚石薄膜--白辉勇,熊军.pptVIP

微波CVD制备硅薄膜 类金刚石薄膜 微波法制备大面积硅薄膜设备及工艺（大面积） 表面波微波等离子体 线形微波等离子体 表面波微波法制备微晶硅薄膜工艺条件 线形微波等离子体制备大面积硅薄膜设备 多轴级的平面微波等离子体的结构原理图（1:4 功率分配） 图.３ 轴心结构和轴心的局部图 EcoVeRaR公司实验室镀膜系统 ,16轴级,8微波发生器的平面等离子体源 覆盖面积1 m2 ,下视 左图 ,上视 中间 ． 微波CVD制备类金刚石薄膜设备及工艺 微波CVD法制备类金刚石工艺条件 Thanks！ * 让不可能成为可能 Making the IMPOSSIBLE possible Capacitvely Coupled Plasma １３．５６ – ６０ＭＨｚ Relatively low density Non-uniformity caused by Standing Wave Effect Skin Effect Edge Effect Electromagnetic properties Quasi-static property Electrostatic property PECVD MWCVD（表面波微波等离子体） 1010 – 1011