GB/T 29505-2013硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法.pdf

ICS29.045 H 80 中华人 民共和 国国家标准 / — GBT29505 2013 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法 Testmethodformeasurin surfacerouhnesson lanarsurfacesofsiliconwafer g g p 2013-05-09发布 2014-02-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 / — GBT29505 2013 目 次 前言 ………………………………………………………………………………………………………… Ⅲ 1 范围 ……………………………………………………………………………………………………… 1 2 规范性引用文件 ………………………………………………………………………………………… 1 3 术语和定义 ……………………………………………………………………………………………… 1 4 方法提要 ………………………………………………………………………………………………… 2 5 干扰因素 ………………………………………………………………………………………………… 3 6 仪器设备 ………………………………………………………………………………………………… 3 7 粗糙度测量步骤 ………………………………………………………………………………………… 5 8 报告 ……………………………………………………………………………………………………… 8 ( ) 附录 规范性附录 粗糙度测量规范和有关输出的例子 …………………………………………… A 9 ( ) ( ) 附录 资料性附录 有关硅片粗糙度分布的试验和模型 源于 附录 ………………… B SEMIM40 11 参考文献 …………………………………………………………………………………………………… 25 Ⅰ / — GBT29505 2013 前 言 本标准按照 / — 给出的规则起草。 GBT1.1 2009 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会( /