负偏压对磁控溅射TaN薄膜微观结构和性能的影响.pdfVIP

第23 卷第7 期 中国有色金属学报 2013 年7 月 Vol.23 No.7 The Chinese Journal of Nonferrous Metals July 2013 文章编号：1004-0609(2013)07-1923-08 负偏压对磁控溅射TaN 薄膜微观结构和性能的影响 薛雅平，曹 峻，喻利花，许俊华 (江苏科技大学 江苏省先进焊接技术重点实验室，镇江 212003) 摘 要：采用磁控溅射技术制备一系列不同负偏压的TaN薄膜。分别采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、原子 力显微镜、纳米压痕仪和高温摩擦磨损仪研究不同负偏压对单层TaN薄膜的微观结构、表面形貌、力学性能和摩 擦性能的影响。结果表明：TaN薄膜主要为面心δ-TaN和斜方Ta4N 晶体结构，择优取向随着负偏压的不同而不同； 当负偏压为80 V