半导体技术基础 教学课件 作者 杜中一 主编 王永姚伟鹏 副主编 第8章 其他常用半导体器件.pptVIP

半导体技术基础 教学课件 作者 杜中一 主编 王永姚伟鹏 副主编 第8章 其他常用半导体器件.ppt

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尚辅网 尚辅网 第8章 其他常用半导体器件 * 尚辅网 8.1 结型场效应晶体管 第一只实用场效应管是W.B. Shockley在1952年提出的结型场效应管,而后在1960年Dawon Kahng发明了金属-氧化物-半导体场效应晶体管。 尚辅网 8.1.1 结型场效应晶体管基本结构及工作原理 1. P-N JFET的结构和工作原理 理想n沟道P-N JFET结构 n沟P-N JFET工作示意图 尚辅网 2. MESFET的结构和工作原理 耗尽型MESFET 增强型MESFET 尚辅网 8.1.2 结型场效应晶体管特性 1. P-N JFET的基本特性 1)输出特性 n沟P-N JFET输出特性曲线 尚辅网 2)转移特性 n沟道P-N JFET转移特性曲线 尚辅网 3)跨导gm 当VDS为常数时,漏极电流ID的微小变化量与栅源电压VGS的微小变化量之比称为跨导,即 跨导就是JFET的增益,它表明了栅极电压控制漏电流的情况,是表征场效应管放大能力的一个重要参数。 尚辅网 4)频率特性 JFET的小信号等效电路 只包含电容的JFET小信号等效电路 尚辅网 8.2 MOS功率场效应晶体管 8.2.1 MOS功率场效应晶体管基本结构 LDMOSFET基本结构 VDMOSFET基本结构 尚辅网 8.2.2 MOS功率场效应晶体管特性 1.导通电阻 功率MOSFET的导通电阻Ron主要由以下几个部分组成: Ron=RS+Rch+RA+RJ+Rd+Rsub+Rwcml 其中RS是源区电阻,Rch是沟道电阻,RA是积累层电阻,RJ是JFET电阻,Rd是漂移区电阻,Rsub是衬底体电阻,Rwcml是总的键合引线电阻 。 尚辅网 2. 栅极电容 栅极电容是MOS器件截止频率的限制因素,它也极大影响器件的开关速度和功率损耗。 3. 寄生双极晶体管 功率MOSFET内部寄生元器件 简化的寄生元器件等效电路 尚辅网 4. 安全工作区 安全工作区由三个因素确定:最大漏电流ID(max)、额定击穿电压BVDSS和最大功耗PT=VDSID。 线性坐标 (a)线性坐标 (b)线性坐标 尚辅网 5. 结温和散热 热阻是热量在热流路径上遇到的阻力,它反映了介质或介质间的传热能力的大小,表明了1W热量所引起的温升大小,单位为℃/W或K/W。用热功耗乘以热阻,即可获得该传热路径上的温升,因此在任意两点x和y之间的稳态热阻Rth写为: 尚辅网 8.3 光电二极管 8.3.1 P-N结光伏特性 1. 光的吸收 当用光照射半导体时,光子可以被半导体吸收,也有可能穿透半导体,这将取决于光子能量和半导体禁带宽度Eg。如果光子能量小于Eg,将不能被吸收。当入射光子透射过半导体,此时半导体表现为透明。 尚辅网 2. 光生伏特效应 P-N结光伏结构示意图 光生载流子运动情况 * * *

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