JN-CLD系列真空磁控溅射镀膜机型号及技术参数.doc

JN-CLD系列真空磁控溅射镀膜机型号及技术参数 性能 型号 JN-CLD-700 JN-CLD-900 JN-CLD-1000 JN-CLD-1250 JN-CLD-1400 JN-CLD-1600 镀膜室尺寸 Ф700×H900mm Ф900×H1100mm Ф1000×H1200mm Ф1250×H1350mm Ф1400×H1600mm Ф1600×H1800mm 电源类型 灯丝电源、脉冲偏压电源、直流磁控电源、中频磁控电源、射频磁控电源、线性离化源 真空室结构 立式双开门、立式前开门结构、后置抽气系统 真空室材质 优质不锈钢材质腔体 极限真空 6.0×10-4Pa 抽气时间(空载） 从大气抽至8.0×10-3Pa≤15分钟 真空获得系统 扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵（具体型号可根据客户的要求进行配置） 镀膜方式 磁控溅射镀膜 制膜种类 金属膜、反应膜、化合物膜、多层膜、半导体膜 磁控靶类型 矩形磁控靶、圆柱形磁控靶、孪生磁控对靶 磁控电源功率及磁控靶数量 根据不同镀膜工艺和客户的需求进行选配 偏压电源 10KW/1台 20KW/1台 20KW/1台 30KW/1台 40KW/1台 50KW/1台 工件转架转动方式 行星式公自转、变频调速（可控可调） 工艺气体 3路或4路工艺气体流量控制及显示系统 选配自动加气系统 冷却方式