钨铈电极新掺杂工艺方法地研究.pdfVIP

第27卷 增刊 稀有金属材料与工程 V01．27，Supp 1998年10月 RAREMETAI，MATERIAI．SANDENGINEERING October1998 钨铈电极新掺杂工艺方法的研究 张文禄 (北京钨钼材料厂北京102206) 摘要介绍了钨铈电极两种新掺杂方法，并用硝酸铈包覆法作随行料对比。研究和优化 了工艺条件及过程参数，证明消除Nq污染的新工艺方法是成功的。 关键词钨铈电极硝酸铈包覆法掺杂工艺 电极；方法B是利用化学反应原理将硝酸铈转化成其 1前言 它形式的铈化合物溶液，然后采用包覆法原理将该溶 液掺杂进WO。基体中，经类似步骤制得钨铈粉末，而 后仍按常规过程制成电极，该方法亦去除了NO，气体 钨铈电极在我国研制成功后已被列人ISO一6848 —84标准，成为取代钨钍电极的理想材料之一，在 排放污染。上述钨铈复合粉末经过合批后成分均匀性 合乎要求，在制取钨铈粉过程中3种粉末表现出不同 TIG和Plasma技术领域获得广泛应用。钨铈电极由 于其电子逸出功低“]，易引燃，易可拉弧长，弧束压 的性能，并且在后续过程中亦有不同的行为特征。 缩性好，承载能力及稳定性高于钨钍，且可在交直流 下应用，元放射性危害等优点，而日益受到人们的关 3试验结果与分析 注。但在使用中，特别在大、中电流条件下用户反映 3．1还原试验工艺参数及结果 尚存在稳定眭和烧损方面的问题；而在生产制造过程 还原试验工艺参数及结果列于表1。 中尚有NO，的污染。为解决上述问题，则采用了新的 表1还原试验工艺参数及结果 掺杂工艺方法，以便提高材质性能．消除NO，的污染。 研究表明：两种新掺杂工艺方法效果好并可适宜工业 化生产。 ‘ 2物料及设备选择和掺杂工艺方法 利用现有的生产钨铈电极的设备，按照大体相似 的制造过程进行研究，而主要在掺杂工艺部分做一些 重要变动。原始物料选购廊坊钨钼材料厂生产的 APT(多年来质量稳定可靠)；掺杂工艺原采用硝酸铈 溶液包覆WO。法(该方法是国内外大多厂家所采 用)，但该方法在掺杂后续过程中有NO，气体释放，污 染环境，在本研究试验中作为随行料对比，为此，选 用了两种新的掺杂方法：掺杂剂粒子悬浮结晶法和硝 从表1看出：一次还原产物B法粒度大，A法最 酸铈化学转化法(简称方法A和方法B)。方法A是 、l，， 小；二次粒度，硝酸铈法最大，A法普遍较小，B法 在钨酸铵溶液中，直接采用微细CeOz粒子(≤0．5 居中；而在A法中，随二次还原装量减小，粒度变小； pm)配制成悬浮液．然后逐步加入到浓缩结晶过程的 而在B法中，亦表现出类似规律；但A法和B法粒度 钨酸铵溶液中，CeO。作为异质