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高频大功率VDMOS的设计
习毓,刘文辉,李家贵
(西安卫光科技有限公司,陕西西安710065)
摘要:本文对击穿电压为100V,导通电阻为14m.Q的VDMOSFET进行了优化设计,采用
新的穿通型的设计思路,合理的JFET注入剂量和相应的工艺改进,通过工艺仿真和二维数
值仿真相结合的方法,给出了外延层电阻率、外延层厚度的设计方法和具体值。提出了在减
小导通电阻的同时如何折中设计开关时间和栅电荷的方法。同时研究了终端的优化设计,给
出基本的制造工艺。最后给出了新设的流片测试数据与传统设计的对比,实验测试数据表明,
新设计的导通电阻、开关时间和面积比传统的设计小了很多。
关键词:穿通型;导通电阻;击穿电压;寄生电容;开关时间
of and VDMOS
Designhighfrequencyhighpower
Li
XiYu,WenhuiLiu,Jiagui
(xi’an Co.Ltd.,Xi’an,Shaanxi710065)
WeiguangTechnology
this breakdownof resistanceof14m.Q
Abstract:In 100V,conduction
paper,the voltage
VDMOSFETis new the trainof the
typethroughdesign thought,and
optimizeddesign,adoptmg
reasonableJFETdosewere simulationand2Dnumerical
corresponding improved,throughprocess
simulationmethodof the is the
resistivity
combiningepitaxiallayer given,andepitaxiallayer
forwardatthesanletimeof on
methodandthe value.Put
thickness,thedesign specific reducing
resistance timehowto andthemethodof the
switching compromise gatecharge.Foroptimization
oftheterminalisstudiedatthesame basic is
design time,themanufacturingprocessgiven.Finally
to traditional test
anewsetoftestdatacontrastwiththe flow,the
presents design experimental
datashowthatthenew on timeandareaismuchsmalle
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