原创力文档- 1、本文档共6页，可阅读全部内容。
- 2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
44 1 人 工 晶 体 学 报
第 卷 第 期 Vol． 44 No． 1
2015
2015 1 JOUＲNAL OF SYNTHETIC CＲYSTALS January ，
年 月
微波等离子体下GaN 的分解与纳米金刚石膜的沉积
田 ， ， ， ， ，
寒梅 刘金龙 陈良贤 魏俊俊 黑立富 李成明
( ， 100083)
北京科技大学新材料技术研究院 北京
摘 : (microwave plasma chemical vapor deposition ，MPCVD)
要 采用微波等离子体化学气相沉积 技术系统地研究了
GaN 。 GaN ， ，
的分解机制 结果表明微波等离子体富氢环境促进了 的分解反应 分解过程由表面缺陷开始 向侧面扩
， ; GaN ，
展 最后沿氮极性面进行 氢等离子体中通入少量氮气能够显著抑制 的分解 在此基础上采用两步生长法成功
实现在GaN 上纳米金刚石膜的直接沉积。
: ; ; ;
关键词 氮化镓 分解 微波等离子体化学气相沉积 纳米金刚石膜
中图分类号:TG174． 4 ;TB34 文献标识码:A 文章编号:1000-985X (2015)01-0007-06
Decomposition of GaN and Direct Deposition
of Nano-diamond Film in Microwave Plasma
TIAN Han-mei，LIU Jin-long ，CHEN Liang-xian ，WEI Jun-jun，HEI Li-fu ，LI Cheng-ming
(Institute for Advanced Materials and Technology ，University of Science and Technology Beijing ，Beijing 100083 ，China)
(Ｒeceived 15 September 2014 ，accepted 2 November 2014)
Abstract :The decomposition mechanism of GaN in microwave plasma was studied systematically using
the microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD)technology． The results indicate that H-rich
environment accelerates th
文档评论（0）