六硼化镧薄膜的制备及其物理特性表征.pdfVIP

下载本文档

20
0
约1.24万字
约 5页
2017-08-09 发布于安徽
举报
版权申诉

六硼化镧薄膜的制备及其物理特性表征.pdf

1、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

六硼化镧薄膜的制备及其物理特性表征。王丽玲o① 刁训刚o① 舒远杰⑦ (①北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心，北京100083； ②中国工程物理研究院化工材料研究所，四川绵阳621900) 摘要：采用LaB。陶瓷靶，在氩气气氛下利用直流磁控溅射制备玻璃基底的LaB6 薄膜。利用X射线衍射、台阶仪、四探针电阻测试仪和红外发射率测量仪等测试手段对样品进行表征，研究基底温度、溅射功率对LaB。薄膜的晶体结构、导电性能及表面红外发射率等物理特性的影响，优化制备LaB6薄膜的工艺条件。关键词：磁控溅射；六硼化镧；导电薄膜 andCharacterizationof ThinFilms Preparation LaB6 Dc by MagnetronSputteringo Shu WangLiling·①DiaoXungang·①Yuanjieo ofMaterial and of (①Center PhysicsChemistry，Sch001Science，BeijingUniversity ofAeronauticsand Astronautics，Beijing100083； ofChemical 621900) ②Institute Materials，CAEP，Mianyang，Sichuan boridefilmswere onto substrates Abstract：TheLanthanum depositedglass emplo— dc a ceramic character— LaB6 yingmagnetronsputteringdepositionusing target．The izationofthefilmswas meansof investigatedby X-ray measurement．Influenceofsub— radiometerand electricalresistance four-pointprobe strate and on as temperaturedepositionpowerphysicalproperties，suchcrystalliza— tion andinfrared wasstudied．The emissivity degree，thickness，conductivity were conditions preparation optimized． films