光纤光栅的制作与发展.docVIP

光纤光栅的制作与发展 1.1 光纤材料的光敏性 光纤光栅的光敏性是指物质的物理或者化学性质在外部光的作用下发生暂时或永久性改变的材料属性。对光纤材料的光敏性而言，则是指折射率、吸收谱、内部应力、密度和非线性极化率等多方面的特性发生永久性改变。 石英材料的分子结构通常为四面体结构，每个硅原子通过形成共价键与四个氧原子相连。虽然Ge原子与Si原子同为四价元素，可以代替Si原子在石英玻璃四面体结构中的位置，但是 Ge的掺入仍将对石英玻璃的分子结构产生干扰并不可避免的形成缺陷中心。由于纯石英玻璃的吸收带位于160nm处，对波长在190nm以上一直到红外区的光具有大于90%的透过率。这些波长的光不会对石英材料的性质产生任何形式的影响，因此，光纤的光敏性与掺杂有关。 一般认为掺锗石英光纤材料的光敏现象源于缺陷中心。起初，曾认为光敏性仅能从掺锗光纤中出现，光栅不能从纯硅纤芯生长，OH基对光纤的光敏性不是必要的。但是后来实验表明，光敏性存在于众多种类的光纤。比如，基于硅基光纤的掺铕光纤，掺铈光纤，掺饵锗光纤，以及掺氟浩盐光纤的掺锶饵光纤等。 然而从实用的观点来看，最引人注意的光敏光纤就是广泛应用于通信产业和光传感领域的纤芯掺锗光纤。在光纤材料中掺锗以后将产生位于180nm，195nm，213nm，240nm，281nm，325nm，517nm等多个附加的吸收带，其中240nm和195nm为强吸收带。240nm吸收带的宽度约为30nm，325nm吸收带的强度仅为240nm吸收带的1/1000。通常，对光纤材料光敏性研究主要集中在240nm和193nm的紫外光波段上。 1.2 光纤材料的增敏技术 自光敏性的发现和第一次证实锗硅光纤中的光栅以来，增加光纤中的光敏性就成为了一个重要的考虑因素。标准单模通讯光纤中掺有3%的锗，典型的光致折射率变化为~3×10-5。由于光纤材料的光敏性与光纤的掺杂浓度基本上成正比关系，因此提高光纤材料感光性最直接的方法就是提高光纤芯区的锗掺杂浓度。一般地，增加掺锗浓度可导致~5×10-4的光致折射率变化。但是用这种方法提高光纤材料的光敏性有一个很大的不利因素，即增加光纤芯区含锗量将增大光纤芯区和包层折射率之差。为保证光纤只能进行单模传输，必须减少光纤的芯径。当芯区的锗含量很高时，光纤的芯径将要非常小，这将影响光敏光纤与普通单模光纤的匹配性能。 因此，寻求更为有效的光纤材料增敏方法具有非常重要的意义。提高光纤材料紫外感光特性的方法可以从以下几个方面考虑： 增加光纤材料中的缺陷浓度。 在光纤材料中掺入具有较大紫外吸收系数的杂质。 在光纤的芯区或包层中掺入适当杂质，尽可能增大二者之间的热特性失配度。 目前，已经有多种有效的光纤材料增敏方案在实验室应用。这些方案主要分为三种，即载氢技术、光纤还原法和多种掺杂。 1.2.1 载氢增敏技术 1993年，ATT Bell实验室的P.J.Lemaire等人首次引入了掺锗石英光纤材料的载氢增敏技术。掺锗3mol%的光纤被放入气压为2.0~76MPa（典型值为15MPa），温度为20~75oC的氢气中，这种方法将氢气以分子形态扩散入光纤的芯区。载氢光纤在收到紫外光照射的时候或者加热时将引起氢气的与掺锗石英玻璃之间的化学反应，即H2分子在Si-O-Ge区发生变化，形成与折射率有关的Ge-OH，Si-OH，Ge-H，Si-H等化学键和缺氧锗缺陷中心，从而提高光纤材料的光致折射率变化，可以使任何类型的掺锗石英光纤材料的光敏性提高1~2个数量级，并在其上写入高反射率的光栅。这样可使折射率变化Δn比原来的变化提高两个数量级，可达~5.9×10-3。另外，也可以对光纤载氘来达到光纤增强光敏性的目的。载氢技术的优势是可在任何锗硅或无锗光纤中生产Bragg光栅，而且未曝光的载氢光纤段在通信窗口的吸收损耗可以忽略。 载氢光纤的形成的折射率变化是持久的，但是由于光纤中存在未反应的氢，使光栅的折射率随时间而发生变化，引起紫外写入光栅的Bragg波长的变化。因此，载氢光纤的热稳定性很差，一般在室温下放置两个星期其折射率深度就下降11%。探索提高温度稳定性的光纤光栅制作技术具有重要意义，一种方法是对其进行加速老化，即用事后热处理来稳定其波长；另一种方法是载氢光纤先经均匀曝光预处理再写入光栅。 1.2.2 光纤材料的换原性处理 由于光纤材料的光敏性与光纤材料的中的缺氧锗缺陷浓度直接相关，且两者近似地成正比关系，因此可以通过在光纤拉制中完成后用氢灯对所要曝光的光纤段进行“焰刷”处理。1993年，F.Bilodeau等人把拉制好的标准通信锗光纤拟写入光栅的一段放在~1700oC的氢氧焰下灼烧，使光纤在240nm处的吸收增加。该作用指发生在含GeO的纤芯，对包层没有影响。紫外照射灼烧后的光纤可得到大于10-3的折射率变化，