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仪器分析 第七讲X射线荧光光谱分析 朱永法 清华大学化学系 zhuyf@tsinghua.edu.cn XRF－装置 波长色散型X射线荧光光谱仪 利用分光晶体对X射线的波长进行色散 能量色散型X射线荧光光谱仪 利用半导体直接测量X射线的能量 XRF－装置 XRF－装置 波长色散原理 Bragg方程 n?＝2dsinθ 检测器置于角度为2θ位置 一般需要10块分光晶体 XRF－装置X射线源 一般分析重元素时采用钨靶，分析轻元素时采用铬靶 XRF－装置－分光晶体 XRF-装置－检测器 正比计数器 常用于轻元素的分析 CH4/Ar X射线辐照电离 XRF-装置 闪烁计数器适合重元素的检测 把X射线转化为可见光 最后把光子转换为电流 能量色散型XRF 能量色散XRF谱 XRF－样品的制备 液体样品，固体样品 易挥发性物质，腐蚀性溶剂 样品化学组成的不同 共存元素的干扰 晶型，粒度，密度以及表面光洁度 研磨到300目 ，压片 溶解成溶液或用滤纸吸收 XRF－分析方法 定性分析 根据Moseley定律 查阅波长的方法进行元素的标定 查阅X射线的能量的方法确定元素成份 计算机上自动识别 人工识谱主要是解决一些干扰谱线 XRF－分析 XRF－定量分析 X射线荧光光谱的强度与元素的含量成正比 分析的是物质的质量，给出质量浓度； XRF－分析方法 校准曲线法 内标法 标准加入法 稀释法 无标样基本参数数学计算法 XRF－基本无参数法 最常用的定量分析方法 利用元素的灵敏度因子 特点是不需要标样，测定过程简单 当元素含量大于 1%时，其相对标准偏差可小于1% 当含量小于1%时，相对标准偏差较高 无标样基本参数法已对基体效应进行了校正，因此不必作基体校正 XRF－薄膜厚度分析 对金属材料检测深度为几十微米 对高聚物可达3mm 薄膜元素的荧光X射线强度随镀层厚度的增加而增强；而基底元素的荧光X射线的强度则随镀层厚度的增加而减弱 几个纳米到几十微米 微电子，电镀，镀膜钢板以及涂料等材料 的薄膜层研究 薄膜厚度分析 XRF－元素分布图 X射线的限束功能 ，辐照束斑直径减小到1mm 对任何指定区域进行小面积逐点进行元素测定 形成X射线荧光光谱的元素分布图 XRF－元素分析的特性 本底强度低，分析灵敏度高，其检测限达到10?5－10?9g/g（或g/cm3） 适合于固体和液体材料的分析 信号测量的重现性好，具有较高的定量分析准确性 具有较好的定性分析能力，可以分析原子序数大于3的所有元素。 可以有效地测定薄膜的厚度和组成 XRF的应用 矿物成份分析（火星成份分析） 环境分析（土壤重金属污染） 陶瓷材料分析 催化剂成份分析 薄膜厚度测定 电子产品的Pb, Hg, Cd, Cr and Br 的快速精确测定 ICB288 Pb,Hg,Cd can’t be detected Cr: 21.2ppm Br: 4.07% ICB288G Pb,Hg,Cd can’t be detected Cr: 38.2ppm Br: 1.85% 主要内容 荧光X射线的产生； Mosely定理； X射线波长分析原理； X射线荧光光谱的种类和结构； XRF分析的特点 思考题 378 Q1，Q2，Q3 The END！ 谢谢！ 全反射X射线荧光光谱仪 TRXRF是一种元素痕量分析的技术； 表面灵敏性，可以检测表面几个原子层厚度 检测灵敏性，可以检测到108原子/cm2 定量分析效果好 可以进行表面扫描 微电子芯片材料的表面金属污染的检测 TXRF原理图 新鲜水样中的元素含量 *清华大学材料与表面组 * X射线荧光光谱分析 基础知识 1923年建立X射线荧光分析方法； 1950 X射线荧光分析谱仪 1980 全反射X射线荧光谱仪 应用： 固体材料（矿物，陶瓷，建材，环境，金属材料，薄膜，镀层分析） 357 XRF分析 — 方法原理 X射线荧光的产生 原子中的内层（如K层）电子被X射线辐射电离后在K层产生一个正孔穴。外层（L层）电子填充K层孔穴时，会释放出一定的能量，当该能量以X射线辐射释放出来时就可以发射特征X射线荧光。 XRF分析－原理 Moseley 定律 ?1/2＝a（Z-b) X射线荧光频率的平方根与元素的原子序数成正比 。只要获得了X射线荧光光谱线的波长就可以获得元素的种类信息 XRF定性分析的基础 荧光X射线的强度与分析元素的质量百分浓度成正比。是X射线荧光光谱的定量分析基础。 XRF－能量色散型 采用高分辨率的半导体检测器直接测量X射线荧光光谱线的能量 结构小的优点 检测灵敏度可以提高2－3个数量级 不