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!# 年第 期 总第 期 真空镀膜技术的现状及进展 -4 $ %! 真空镀膜技术的现状及进展 邸英浩 曹晓明 （天津河北工业大学材料学院， ） ! #! ［摘要］ 介绍了在真空条件下真空蒸发镀、溅射镀膜和离子镀等镀膜技术的概念和这几种真空镀膜技术的特点、应用及 发展的前景。 关键词 真空蒸发镀 离子镀 磁控溅射 发展趋势 ! 前言 用的设备。 镀膜技术也叫薄膜技术，是在真空条件下采用物 直枪是一种轴对称的直线加速枪，电子从灯丝阴 理或化学方法，使物体表面获得所需的膜体。镀膜技 极发射、聚成细束，经阳极加速后打在坩锅中使镀膜 术是最初起源于 世纪 年代，直到 年代后期 材料熔化和蒸发。直枪的功率可变范围较大，有的可