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RFQ;机I速器同时加速同q/mTF负离子的进展及可能应用木
于金祥陈佳洱任晓堂陆元荣李伟国王忠义方家驯张征芳
(北京大学重离子物理研究所、技术物理系,北京100871)
摘要
本文提出了用RFQ加速器同时加速同荷质比正负离子的机理.并刹甩现有的RFQ加速
装置进行了实验验证。初步结果表明采用这一方法可有效地提高RFQiJn速装置的载束能力,
并可用于洁净核能源、强流氧离子注入及离子束材料改性等应用领域。
关键词RFQ加速器同时加速正负离子
1.引言
RFQ加速器具有体积小、柬流传输率高,并可使带电粒子从每核子几key开始,直接
加速到每核子几MeV。因此,目前它常被用作大型加速器的注入器、强中子源、医疗诊断设
F
备和w级离子注入机等开发研究领域。近年来在千净核能源领域的研究计划中,RQ也
F
被考虑用作注入器Ll,zJ。在上述诸方面应用中RQ都是用于加速单一种类正或负带电粒
子,加速脉冲流强因受柬流空间电荷限制,对于不同离子束,一般在卜100mA左右。但在干
净核能源计划和高剂量率的氧离子埋层注入等应用研究中常需高达数百mA的流强,因此,
F
为获得高流强,R.A.Jameson(LANL)在拟议的干净核能源计划中,提出使用两台RQ加
速器并联注入,在cw工作模式下,每台提供2.5MeV、125mA的质子束1w,这无疑增加了该
F F
计划的造价。鉴于R Q加速器通常只利甩了馈入高频功率的正或负半周的现状,用R
FQ
Q加速器同时加速同荷质比正负离子(尤其是同一元素的正负离子),原则上可使R
加速器的极限载柬能力提高一倍左右。这可作为上述问题的一种解决办法,而且在高剂量
氧离子埋层注入应用研究中,正负氧离子同时注入,由于正负电荷中和,可避免靶片由于
电荷积累造成的击穿,从而可提高靶片的质量和设备的可靠性。这在实际应用中是非常应
F
用有益的。自从1993年我们提出用了R
Q加速器同时加速同荷质比正负离子的设想以来
,我们首先研制了可产生正、负离子的PIG离子源,编制了同荷质比正负离子在RFQ自I速装
置中运动的模拟程序,并利用现有的RF。实验装置.初步进行了用RFQ加速器同时加速正负
氧离子的实验。1996—1998年期间。在国家自然科学基金资助下,系统地开展了用RFQ加速
装置同时加速正负氧离子的实验研究‘4,a,。J。
F
2.R Q加速器同时加速同荷质比正、负离子的原理
RFQ加速器同时加速同一荷质比的正、负离子原理,主要基于荷质比绝对值相同的正或
负离子经过电位差值相等的电场时,所获速度相等,即:
v=(2qV/Am。)1/2 (1)
}田家自然科学基金资助项耳
(1)式中./AJ,j荷质比,m。为质子的静止质量,v电压。当初速相等的同一荷质比离子如:
F
II+、H一,0+、0一等,进入R
Q加速器后,同荷质比正负离子在高频电场作用
I-·在聚束段分别各自聚拢成移向o”n-t-巾s平衡位相的束团,并在各自的平衡位相下
进一步边加速、边聚焦,直至加速到所需能量。
3.实验装置与结果分析
3.1实验装置描述
四年来经过不断改进,目前实验装置如图1所示,0+、O-离子柬的产生分别采用永磁边
引出和端引出PIG源,流强各为imA左右,离子比均可高达70%以上。由正、负PIG离子源引
出的0+、旷离子束分别由相应的单透镜(ELI一2)聚焦.为克服正离子源引出区边缘磁场对
O+束流所引起的附加偏转,在单透镜ELI后加静电导向器ST进行校正,尔后0+、O-离子束经
体分离
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