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表面电容式 由一个普通的ITO层和一个金属边框，当一根手指触 摸屏幕时，从面板中放出电荷。感应在触摸屏的四角 完成，不需要复杂的ITO图案 投射电容式（感应电容式） 采用1个或多个精心设计的、被蚀刻的ITO层，这些ITO层通过蚀刻形 成多个水平和垂直电极 投射电容式根据不同工作原理又分： 自感应电容式（自电容） 互感应电容式（互电容） 2.33. 黄光制程产品（二） STEP3 文字 文字 经过黄光制程 最终达到所需的设计结构 STEP2 文字 文字 STEP1 文字 文字 项 目 线 别 药 液 名 称 成 分 外 观 PH值 溶解度 1 ITO GD709碱性清洗剂 KOH、水、界面活性剂 无色液体 11 可溶于水 2 ITO Metal EC-IP100 光阻剂 酚衍生物、酚醛树脂、醋酸酯 暗红色 NA 不溶于水 3 4线通用 EZ240 光阻稀释剂 丙二醇甲醚、乙酸丙二醇单甲基醚酯 无色透明吸湿性液体 5~7 可溶于水 4 ITO Metal DEV DT200显影液 （TMAH） 氢氧化四甲基铵、水 无色液体 11 可溶于水 5 ITO 蚀刻 类王水 （ITO 蚀刻液） 硝酸、盐酸 暗褐色 ＜1 可溶于水，酒精及丙酮 6 ITO Metal 剥膜液（N300） MEA单乙醇胺、 BDG二乙二醇丁醚 无色或微黄 12 可溶于水 7 OC 显影液 大乾KD850 KOH、水、界面活性剂 微黄澄清液体 11~12 可溶于水 8 Metal 蚀刻 铝酸 （Metal 蚀刻液） 醋酸、硝酸、磷酸 透明无色液体 ＜1 可溶于水 9 TOP OC EOC 170 光阻剂 乙酸丙二醇单甲基醚酯、压克力单体、压克力树脂、光起始剂 无色液体 NA 不溶于水 2.34. 黄光制程化学用品 2.35. 黄光制程常见不良 涂布不良： 1. 涂布针孔 2.箭影 3.气泡 4.刮伤 5.脏污 6.光阻回溅… 显影不良： 1. 显影不净 2.过显 3.刮伤 4.脏污 5.药液残留 6. 光阻脱落 7.显影圈 8.凹点…… 蚀刻不良： 1. ITOMetal残留/过蚀 2.脏污 3.刮伤…… 剥膜不良： 1. 剥膜不净 b.脏污 3.刮伤 4.药液残留…… 其它不良： 1. MO脱落 2.SiO2脱落 3.静电击伤 4.线阻偏差…… 2.36. 涂布异常图片 1. 涂布针孔（部分因脏污、光阻粘度、涂布机台异常等所导致，目视为白色亮点） 2.涂布气泡（部分因脏污、光阻粘度、涂布机台异常等所导致，目视为白色亮点） 3.涂布脏污（部分因来料脏污、未清洗干净、机台脏污等所导致） 4.涂布箭影（部分因玻璃上粘有有机物、涂布机台异常、光阻粘度、 风刀水未吹干等所导致） 2.37. 显影异常图片 1. 显影不净（部分因软烤温度、时间、曝光能量、显影速度等所导致,出现为显影后, 目视白色条状,2D为彩色物质） 2. 药液残留（在显影、剥膜清洗后留下的药液残留） 3. Metal线上光阻残留（固定光阻残留主要因光罩上粘有脏污等其他物质所导致） 4. 光阻脱落（部分因软烤温度、曝光能量、显影速度等所导致，出现为显影后， 目视黑色点状，如脱落不严重目视无法识别） 6.顶伤（因机台及导轮毛刺等所导致。出现在每道制程，目视为白色亮点、 2D下成脏污状且透有彩色） 5.光阻刮伤（因机台及导轮毛刺等所导致。出现在每道制程，强光下目视 为白色条、点状） 7. 显影圈（部分因显影速度及电导率等所导致，出现在显影后，目视为 小白点、较小且密集） 8.锯齿（部分因软烤温度、曝光能量、显影速度等所导致，出现在显影后， 目视锯齿状/外观”老鼠咬”） 9. 凹点（大部分是因脏污或其它物质导致光阻无法被显影干净，一般出现 在 TOP OC制程，目视为亮点） 10.药液残留（部分是因风刀未吹干及药液回粘水洗不掉，出现在每道制程， 目视背光为白色、未烤前大部分可擦拭） 2.38. ITO蚀刻异常图片 1 .ITO蚀刻不净/ITO残留（一般因光阻残留、蚀刻速度及药液浓度、光阻回溅等导致 蚀刻不净严重的强光下目视为白雾状，白光下不明显，通常借助于2D或万用表） 2 .ITO被蚀（一般因涂布异常、蚀刻速度等所