表面活性剂对铝合金表面电化学沉积硅烷膜层的影响.pdfVIP

维普资讯 第37卷 第3期 2008年6月 表表面回致技术不 Vo1．37 No．3 Jun．20O8 SURFACE TECHNOLOGY 表面活性剂对铝合金表面 电化学沉积硅烷膜层的影响 徐以兵，何德良。周舟，钟建芳 (湖南大学化学生物传感与计量学国家重点实验室，湖南 长沙 410082) [摘 要] 采用交流阻抗技术研究了表面活性剂对不同条件下双-1，2-[3(三 乙氧基)硅丙基]四硫化物硅烷在铝合金表面阴 极电化学辅助沉积成膜的影响。研究表 明：在硅烷溶液中加入表面活性剂进行改性，可降低硅烷在铝合金表面电化学沉积的阴极沉 积电位，抑制硅烷沉积过程中的析H 作用，改善电极界面区域硅烷成膜环境。试验证 明：硅烷溶液 中表面活性剂的最佳改性浓度 为0．03％，在此浓度下，铝合金表面硅烷阴极电沉积的最佳沉积电位为一1．6