溅射技术在SiC薄膜沉积中的应用和工艺研究进展.pdfVIP

维普资讯 第37卷 第2期 2008年4月 表面技术 V0I．37 No．2 ADr．2OO8 SURFACE TECHNOLOGY 溅射技术在 SiC薄膜沉积中的应用和工艺研究进展 梅芳 ，弓满锋 ，李玲 (1．湛江师范学院物理系，广东 湛江 524048； 2．西北工业大学超高温结构复合材料国家重点实验室，陕西 西安710072) [摘 要] 近年来，国内外SiC薄膜材料制备工艺研究迅速发展，由此带来SiC薄膜性能方面的研究也获得长足的进步，新技 术、新工艺、新性能不断涌现。溅射 SiC技术相对于其它沉积技术(CVD、PIP等)有许多独特的优点：沉积温度低、结合性和致密性 好、表面平整、硬度高、光电性能优异以及工艺安全环保等，因此越来越受到重视，且已经成