添加剂对甲基磺酸盐镀锡电沉积过程的影响.pdfVIP

维普资讯 第36卷 第5期 2007年 10月 表面技术 VO1．36 No．5 Oct．2007 SURFACE TECHNOLOGY 添加剂对 甲基磺酸盐镀锡电沉积过程的影响 靳佳琨 (天津滨海职业技术学院，天津 300451) [摘 要] 为了探讨添加剂对锡电沉积的作用机理，运用循环伏安法、计时安培法和阴极极化曲线法研 究了添加剂2-巯基苯 并噻唑对锡电沉积过程的影响。结果表明锡的电沉积过程经历了晶核形成过程，其电结晶按照三维瞬时成核方式进行，加入添加剂 没有改变锡的电结晶机理，对锡的电沉积过程起阻化作用，但有利于晶核的形成，从而可以得到结晶细致的镀层。 [关键词] 镀锡；电沉积；2一巯基苯并噻唑 [中图分类号]TQ153．1 [文献标识码]A