在U表面循环Ar^＋轰击—磁控溅射离子镀Al层.pdfVIP

维普资讯 第 l4卷 第 2期 腐蚀科学与防护技术 V01．14No．2 2002年 3月 CORROSION SCIENCE AND PROTECTION TECHNOLOGY Mar2002 在 u表面循环Ar+轰击一磁控溅射离子镀 Al层 鲜晓斌 吕学超 张永彬 (中国工程物理研究院 绵阳621900) 摘要 用循环 Ar轰击 一磁控溅射离子镀 (MSIP)法在 u表面上镀A1，并采用俄歌电子能谱仪 (SAM)、扫描电镜 (SEM)、电化学实验和湿热腐蚀加速实验．研究了其表面、剖面形貌和耐蚀性能．以及 u基和 镀层界面．结果表 明：u上循环Ar轰击一磁控溅射离子镀A1界面存在较宽的原子共混区．且耐蚀性能明显优于常规磁控溅射离子 镀 A1 关键词 A1镀层 循环 Ar轰击 界面 耐蚀性 中圉分类号 TG174 文献标识码 A 文章编号 1002．6495(2002)020098—03 AlCoATINGSoN U SUBSTRATESBY REPEATED Ar BoMBAllDMENT—MAGNETRoNSPUTTERIoNPIATED(MSIP) XIAN Xiaobin，LU Xuechao，ZHANG Yongbin (ChinaAcodemyofEngineeringPhys~s．Mianyang，621900) ABSTRACT AIcoatingon U substrateswerepreparedby repeatedAr bombardment—MSIP．The suHacemorphology，cross—sectionalmorphology．corrosionresistance．andinterfacebetweenA1coat— ingshavebeeninvestigatedbyAugerelectron spectrosocpy(AES)，csanningelectronmicroscopy (SEM)，electrochemicalmeasurement，andatestinmoistatmosphereof100％ relativehumidityat 95℃ ．Theresultsshow thatthewidthoftheinterfacelayerofthecoatingswasmorethan200nm．The suHacemorpholog yofAlcoatingswereocnstitutedoffinegrainswithsmoothappearance．Theocrro— sionresistanceofAIcoatingsbyrepeatedAr bombardment—MSIP wassuperiortothatofocnven． tiona1MSIP． KEY WORDS AIcoatings，repeatedAr bombardment．interfaces，ocrrosionresistance 金属 u在很多应用场合下极易遭受腐蚀，且腐 离子镀两部分组成．研究对其膜基界面 以及耐蚀性 蚀程度相当严重 ．国外对防止 U金属腐蚀进行 了长 能的影响 ． 期的研究．应用于其它金属 的防护方法、防护材料． 1实验方法 几乎都在 u上采用过，也获得了不 同的研 究效 果_lJ．目前国内外材料研究者仍在积极探索防止 u上 A1镀层在 IJT一0700型磁控溅射离子镀 u金属腐蚀的新技术、新工艺以及新的镀层体系 膜机上制备 ．u样 品尺寸为 6910mm ×3mm．用水