磁控溅射法沉积纳米Cu薄膜的性能研究-.pdfVIP

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磁控溅射法沉积纳米Cu薄膜的性能研究-.pdf

: 郭俊婷 等 磁控溅射法沉积纳米 薄膜的性能研究 Cu 05123 文章编号: ( ) 1001-9731 2015 05-05123-05 磁控溅射法沉积纳米 薄膜的性能研究∗ Cu , 郭俊婷 徐 阳   ( , ) 江南大学 生态纺织教育部重点实验室 江苏 无锡 214122 : ( ) 摘 要 采用卷绕型磁控溅射设备在涤纶 针     PET 实 验 2    , 刺毡表面沉积了纳米结构 薄膜 利用 射线衍射 Cu X ( ) , 实验材料 仪 XRD 对薄膜的组分和结晶状态进行了分析 用原 2.1  ( ) ( , 子力显微镜 AFM 分析了不同溅射工艺参数对纳米 涤纶针刺毡 江苏菲特滤料有限公司 面密度 , / ),2 ; Cu 薄膜微观结构和颗粒直径的影响 并较为系统地分 500 m 幅宽 800 mm 纯度为 99.99%的金属铜 g 、 , . 析了溅射功率 工作气压和沉积时间对镀铜 PET针刺 靶 尺寸为 957 mm×90 mm×6 mm . , , 毡导电性能的影响 结果表明 增大溅射功率 镀铜 2.2 实验设备 , ( PET针刺毡导电性和 Cu 膜均匀性变好 但应控制在 JZCK-800 高真空卷绕磁控溅射设备 沈阳聚智科 ; , ), . 6 kW以下 随工作气压的增大 薄膜方块电阻先减小 技开发有限公司 设备示意图如图 所示 该设备具1 , ; , ( , 、 ), 后增大 薄膜厚度更加均匀 随着沉积时间的延长 Cu 有 个矩形靶 其中 中频靶 只 射频靶 只 最大3 2 1 , . , , 粒子的直径增大 Cu膜的导电性和均匀性明显变好 卷装直径为 400 mm 溅镀有效宽度为 800 mm 常用

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