激光等离子体效应对薄膜损伤特性的影响.pdfVIP

第32卷，第5期 光谱学与光谱分析 V01．32，No．5，ppll62—1165 01 and May，2012 Z 2年5月 SpectroscopySpectralAnalysis 激光等离子体效应对薄膜损伤特性的影响 韩敬华1，段 涛2，高胥华3，冯国英H，范卫星1，杨李茗3，刘岩岩1，包凌东1 1．四川大学电了信息学院，四川成都610064 2．西南科技人学极端条件物质特性实验审，四川绵阳 621010 3．成都精密光学1：程研究中心，四川成都610041 摘要高能激光的发展对光学元件的抗损伤能力要求越来越高，其中光学薄膜是最薄弱的环节之一。实 验研究了激光的聚焦位置对石英基片I：HfOz／Si02减反射薄膜损伤形貌的影响，研究发现：激光等离子体 的高压冲击波对薄膜产生强烈的冲击剥离效应，其压强随膨胀半径的增加而迅速减小。激光等离子体光潜 的辐射波长小于入射激光波长，这会增强薄膜对辐射光能齄的吸收；位于深紫外波段、能量大于HfOz薄膜 带隙的光子能虽，将被薄膜^接吸收，从而加剧薄膜的电离破坏。激光等离子体的辐射效应和冲击波效应的 共间作用决定r薄膜的损伤形貌。当激光聚焦到薄膜表面时，冲击波压强极大会使薄膜发生大面积的电离 去除，同时基底发生击穿；当两者距离大到一定距离时，冲击波只会使得中心处小面积薄膜发生剥离，基底 未出现断裂。 关键词激光等离子体；光学薄膜；光谱；辐射电离；冲击波 中图分类号：0539．TN244文献标识码：A 特征及其对薄膜电离效应的影响，分析了激光等离子体膨胀 引 言 过程产生的冲击波(shockwave)的演化规律及其对薄膜和基 底的损伤效应。 高能激光在军事、工业等方面的应用需求，推动r相关 技术的发展，其中高负载能力的光学元件是一个关键L1]。光 1实验部分 学薄膜一直是光学元件中易产牛损伤的薄弱环节[2]，对此国 内外开展r大培的研究，主要集中在强激光诱导薄膜损伤的 1．1装置 实验和机理上，如通过研究重复脉冲诱导薄膜缺陷的累积规 实验装置及原理如图1所示，为了使材料发生击穿产生 064 C1TI凸透 律来分析薄膜损伤的机理[3]，多波长激光共嗣作用下薄膜的 等离子体，将波长为l nm的激光通过焦距为15 损伤特性[“，不同脉宽激光对薄膜的损伤规律[5，等。以上研 镜进行聚焦，把薄膜样晶放嚣在距离焦点的不M位置，同时 究为薄膜的损伤机制分析和高阈值薄膜的研制提供了重要的 观测薄膜的损伤形貌以及相应的激光等离子体的发射光谱。 参考。研究表明，薄膜内部的杂质或缺陷是激光能琏的主要 Shockwave 吸收源。杂质或缺陷吸收激光脉冲能量后引起的熔化、汽化 或电离诱导薄膜产牛损伤，对于脉宽为TIS量级以上的激光 脉冲尤为明显。杂质或缺陷的粒径大部分在微米和纳米量 级，其分布密度直接影响了薄膜发生损伤的儿率【6]。 由于激光等离子体的各种效应对薄膜损伤特性影响极 FilmSubstrate ofthe of 大，所以进行系统研究很有必要。激光等离子体对薄膜的损 Schematic,Ua胛m n昏1 principle 伤效应是多重的，本文主要研究了激光等离子体的发射光谱