逐级降电压法交流电沉积Pd-Ni纳米线的研究.pdfVIP

第6卷第 6期 纳 米 科 技 No．6 2009年 12月 Nanoscience＆Nanotechnology December20o9 逐级降电压法交流电沉积 Pd—Ni纳米线的研究术 徐明丽 ， 杨显万 ， 张正富 (1．昆明理工大学理学院， 云南 昆明 650093) (2．昆明理工大学材料与冶金工程学院， 云南 昆明 650093) 摘 要：在传统的二次阳极氧化法制备多孔氧化铝模板的基础上，利用逐级降低 电压的方法减薄 阻挡层 ．用扫描电子显微镜 、透射 电子显微镜和x射线光电子能谱仪对 Pd—Ni合金纳米线的组织 形貌、晶体结构和化学状态等进行了表征与测试，结果表明，Pd—Ni纳米线的直径为70nm左右，且 纳米线径向表面不够光滑，呈毛刺状，单根纳米线属于多晶结构；Pd—Ni纳米线中Pd：Ni原子比接 近为 1：l，表明金属Pd、Ni在纳米线中处于简单混合状态。此外，对交流电沉积制备金属纳米线时 沉积条件的选择做 了简要解析。 关键词 ：逐级降电压法；阳极氧化铝模板 ；Pd—Ni合金 ；纳米线；交流电沉积 StudyofAC Electr0一dep0sitiOnofPd-NiNanowires bySteppingDownOxidationVoltage xu Ming—li， YANG Xian—wan ， ZHANG Zheng-fu (1．FacultyofScience，KunmingUniversityofScienceandTechnology， Kunming 650093， China) (2．FacultyofMaterialandMetallurygEngineering，KunmingUniversityofScienceandTechnology， Kunming 650093， China) Abstract：Onthebaseofporousaluminatemplatebeingpreparedbytraditionaltwoanodieoxidationsteps，thethickness ofbarrierlayerslowlybecamethinnerwiththedecreaseoftheanodicoxidationvoltagestepbystep，tobepropitiousto ACelectro—depositionofPd—Nialloynanowires．Scanningelectronmicroscopy (SEM)，transmissionelectronmicroscopy (TEM)andX—Rayphotoelectronspectrometer(xPS)wereemployedtoinvestigatethemorph0logy，crystalstructureand chemicalstateofpalladium—nickelnanowires．TheresultsindicatedthatthediameterofPd-Ninanowirewasabout70 nm，itwasnotsmoothandcoarseonthesurface，andnanowirewasmuhi-crystalstructure．Atomicratioofpalladium and nickelinnanowirewasapproximately 1：1．Thisindicatedthatpalladium andnickelweresimplymixedinnaflowires．In addition，theelectro—depositionconditionsofpreparationPd—Ninanowireswerealsobrieflyanalyzed． Keywords：steppingdownoxidationv