垂直磁场作用下电沉积数值分析与实验.pdfVIP

第53卷第5期 大连理工大学学报 VoI．53，No．5 01 3 2013年9月 ofDalian of Sept．2 Journal Technology University ≯业业业业业业坐‰ {材料、机械工程{} 凑乔带蒂芥带带齐赤 垂直磁场作用下电沉积数值分析与实验 贾卫平1’2， 贾振元1， 苗 斌2， 昊蒙华～， 吴承原3 (1．大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室，辽宁大连116024； 2．大连大学特种加工与功能材料制备辽宁省教育厅重点实验室，辽宁大连 116622； 3．大连理工大学机械工程与材料能源学部，辽宁大连 116024) 摘要：对电沉积过程中磁场、电场和流场进行数值分析并利用COMSOL仿真软件进行数值求 T垂直磁场作用下流体流场分布、镀液中电场分布以及不同时间 解，得到了无磁场作用和0．2 段镀层厚度变化特征的数值结果，并对其进行了对比分析．为了解磁场对电沉积过程的影响规 律，分别在施加0、0．2、0．4和0．8T磁场作用下电沉积镍。对比实验和数值分析结果表明，镀层 T磁场条件 厚度仿真值和实验值变化趋势接近，无磁场条件下平均绝对偏差为0．443弘m，0．2 T垂直磁场作用后，镀层的平均厚度较无磁场作用下 下平均绝对偏差为0．425扯m．施加0．Z 增加了11％，与仿真结果一致，并且随着磁场强度的增加，镀层晶粒细化度、表面质量得到进 一步提高．分析结果表明数值分析可以较为精确地反映磁场对电沉积过程的影响作用． 关键词：电沉积；磁场；数值模拟；流场；电场 文献标志码：A 中图分类号：TGl76；TQl53．1 O 引 言 效应．MHD效应能够影响带电离子的传输，从而 影响到电极界面的条件，例如表面的pH和表面 电沉积是一种简便的薄膜制备方法，具有成 的离子性吸附等．此外，磁场还具有磁取向作用、 本低、结构和厚度容易控制、可制备大面积膜等优 梯度力作用等．为获得良好织构和表面形貌的镍 势．近年来，随着材料电磁加工技术的发展，为了获 金属膜，本文以电沉积镍镀层为研究对象，通过建 得新性能的材料或改善传统材料的性能，探讨磁场 立电沉积物理场数学模型，将磁场、流体流场、电 等外加因素对电沉积影响的研究非常活跃．电沉积 场耦合并进行数值仿真计算，进而得到电沉积过 过程可分为传质、表面转化、电化学步骤、新相生成 程中流体流场分布、镀液中电场分布以及不同时 等几个环节，磁场对这些环节会产生影响，从而改 间段镀层厚度变化特征，并通过实验对数值分析 变晶粒的生长模式、表面形貌和材料的织构，